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1. (WO2017030046) 積層体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2017/030046 国際出願番号: PCT/JP2016/073436
国際公開日: 23.02.2017 国際出願日: 09.08.2016
IPC:
C03C 17/42 (2006.01) ,B32B 17/06 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01)
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17
繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
34
組成の異る少くとも2種の被覆を有するもの
42
少くとも1つが有機物質の被覆でありかつ少くとも1つが非金属被覆であるもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
17
本質的にシートガラス,またはガラス,スラグまたは類似の繊維からなる積層体
06
層の主なまたは唯一の構成要素がガラスからなり,特定物質の他の層に隣接したもの
G 物理学
06
計算;計数
F
電気的デジタルデータ処理
3
計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01
ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03
器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041
変換手段よって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
出願人:
旭硝子株式会社 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
発明者:
稲本 美砂 INAMOTO, Misa; JP
岡畑 直樹 OKAHATA, Naoki; JP
代理人:
伊東 忠重 ITOH, Tadashige; JP
伊東 忠彦 ITOH, Tadahiko; JP
優先権情報:
2015-16230119.08.2015JP
発明の名称: (EN) LAMINATE
(FR) STRATIFIÉ
(JA) 積層体
要約:
(EN) This laminate is provided with a substrate and an antifouling layer. The laminate has a Martens hardness of 1000-4500 N/mm2. A silicon-containing layer including at least 10 atm% of silicon is disposed between the substrate and the antifouling layer. A fluorine-containing layer (F layer) is disposed at the antifouling-layer side of the silicon-containing layer. The F1s binding energy peak of fluorine in the F layer is in the range of 684-687.5 eV inclusive. The ratio F1s/Si2p of the atomic concentration (atm%) of fluorine calculated from the F1s binding energy peak of fluorine, to the atomic concentration (atm%) of silicon calculated from the Si2p binding energy peak of silicon is in the range of 0.003-100. The F1s binding energy peak of fluorine in the antifouling layer is over 687.5 eV, but not more than 691 eV.
(FR) L’invention concerne un stratifié qui possède un substrat et une couche antisalissure. Ce stratifié présente une dureté Martens comprise entre 1000N/mm et 4500N/mm. Une couche à teneur en silicium qui contient 10%atm ou plus d’un silicium, est disposée entre ledit substrat et ladite couche antisalissure. Une couche (couche (F)) comprenant un fluor, est disposée côté couche antisalissure de la couche à teneur en silicium. Un pic d’énergie de liaison F1s du fluor dans ladite couche (F), est supérieur ou égal à 684eV et inférieur ou égal à 687,5eV. Un rapport F1s/Si2p entre la concentration en atomes (atm%) de fluor calculée à partir dudit pic d’énergie de liaison F1s du fluor, et la concentration en atomes (atm%) de silicium calculée à partir du pic d’énergie de liaison Si2p du silicium, se trouve dans une plage de 0,003 à 100. Le pic d’énergie de liaison F1s du fluor dans ladite couche antisalissure, dépasse 687,5eV et est inférieur ou égal à 691eV.
(JA) 基板および防汚層を有する積層体であって、1000N/mm~4500N/mmのマルテンス硬さを有し、前記基板と前記防汚層との間には、10atm%以上のケイ素を含むケイ素含有層が配置され、該ケイ素含有層の前記防汚層の側には、フッ素を含有する層(F層)が配置され、前記F層におけるフッ素のF1sの結合エネルギーピークは、684eV以上687.5eV以下であり、前記フッ素のF1sの結合エネルギーピークから算出されるフッ素の原子濃度(atm%)とケイ素のSi2pの結合エネルギーピークから算出されるケイ素の原子濃度(atm%)の比F1s/Si2pは、0.003~100の範囲であり、前記防汚層におけるフッ素のF1sの結合エネルギーピークは、687.5eV超691eV以下である、積層体。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2017030046