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1. (WO2017029754) イオンビーム装置、及び試料元素分析方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2017/029754 国際出願番号: PCT/JP2015/073361
国際公開日: 23.02.2017 国際出願日: 20.08.2015
IPC:
G01N 23/225 (2006.01) ,G01N 27/62 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23
グループG01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
22
二次放射の測定によるもの
225
電子またはイオンマイクロプローブを用いるもの
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
27
電気的,電気化学的,または磁気的手段の利用による材料の調査または分析
62
ガスのイオン化の調査によるもの;放電の調査によるもの,例.陰極の放射
出願人:
株式会社日立製作所 HITACHI, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番6号 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280, JP
発明者:
志知 広康 SHICHI Hiroyasu; JP
松原 信一 MATSUBARA Shinichi; JP
代理人:
平木 祐輔 HIRAKI Yusuke; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) ION BEAM DEVICE AND METHOD FOR ANALYZING SAMPLE ELEMENTS
(FR) DISPOSITIF DE FAISCEAU IONIQUE ET PROCÉDÉ D'ANALYSE D'ÉLÉMENTS D'ÉCHANTILLON
(JA) イオンビーム装置、及び試料元素分析方法
要約:
(EN) The present invention provides a practical technique for analyzing sample elements using an ion beam, wherein ultra micro-trace amounts of hydrogen and oxygen, in particular, in a sample can be detected with very high sensitivity. The present invention also provides a technique for conventionally difficult element analysis for investigating the 3D distribution of trace amounts of hydrogen and oxygen in a sample. The ion beam device of the present invention has: an ion source, an ion beam irradiation system for irradiating ions discharged from an ion source to a sample, a sample chamber for accommodating the sample, a detection system for detecting secondary ions discharged from the sample irradiated with the ion beam, an alkali metal feed system for feeding an alkali metal to the sample, and a specified-gas removal unit for removing hydrogen gas and/or oxygen gas originating in the alkali metal fed to the sample.
(FR) La présente invention concerne une technique pratique permettant d'analyser des éléments d'échantillon à l'aide d'un faisceau ionique, dans laquelle des ultra-micro traces d'hydrogène et d'oxygène, en particulier, dans un échantillon peuvent être détectées avec une sensibilité très élevée. La présente invention concerne également une technique pour analyse d'éléments traditionnellement difficile permettant d'étudier la distribution 3D de quantités à l'état de trace d'hydrogène et d'oxygène dans un échantillon. Le dispositif de faisceau ionique selon la présente invention comprend : une source d'ions, un système d'irradiation par faisceau d'ions pour irradier des ions déchargés par une source d'ions sur un échantillon, une chambre d'échantillon pour recevoir l'échantillon, un système de détection pour détecter des ions secondaires émis par l'échantillon irradié avec le faisceau ionique, un système d'alimentation en métal alcalin pour fournir un métal alcalin à l'échantillon, et une unité d'élimination de gaz spécifié pour éliminer de l'hydrogène gazeux et/ou de l'oxygène gazeux provenant du métal alcalin introduit dans l'échantillon.
(JA) 本発明は、イオンビームを用いる試料元素分析装置において、特に試料極微小部の極微量の水素や酸素を超高感度に検出できる実用的な元素分析技術を提供するものである。また、本発明は、従来は困難であった試料中の極微量の水素や酸素の三次元分布を調べるための元素分析技術を提供するものである。本発明によるイオンビーム装置は、イオン源と、イオン源から放出されるイオンを試料に照射するイオンビーム照射系と、試料を収納する試料室と、イオンビームを試料に照射して試料から放出される二次イオンを検出する検出システムと、アルカリ金属を試料に供給するアルカリ金属供給システムと、試料に供給されるアルカリ金属に起因する水素ガス及び/又は酸素ガスを取り除く特定ガス除去部と、を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)