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1. (WO2017014304) 粉末コーティング装置
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国際公開番号: WO/2017/014304 国際出願番号: PCT/JP2016/071587
国際公開日: 26.01.2017 国際出願日: 22.07.2016
IPC:
C23C 14/34 (2006.01) ,C23C 14/00 (2006.01) ,H01M 4/88 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
H 電気
01
基本的電気素子
M
化学的エネルギーを電気的エネルギーに直接変換するための方法または手段,例.電池
4
電極(電気分解用電極C25)
86
触媒により活性化された無消耗性電極,例.燃料電池のためのもの
88
製造方法
出願人:
株式会社フルヤ金属 FURUYA METAL CO., LTD. [JP/JP]; 東京都豊島区南大塚二丁目37番5号 37-5, Minami Otsuka 2-chome, Toshima-ku, Tokyo 1700005, JP
発明者:
丸子 智弘 MARUKO, Tomohiro; JP
地主 啓一郎 JINUSHI, Keiichiro; JP
伊藤 あみ子 ITO, Amiko; JP
代理人:
今下 勝博 IMASHITA, Katsuhiro; JP
岡田 賢治 OKADA, Kenji; JP
優先権情報:
2015-14513222.07.2015JP
発明の名称: (EN) POWDER COATING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE REVÊTEMENT DE POUDRE
(JA) 粉末コーティング装置
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide a powder coating apparatus in which there is no intermixing of impurities, which is able to form thin films in which freely selected elements have been combined and which meet the requirement that the composition of the thin film obtained is uniform. The present invention is a powder coating apparatus 100, which comprises a barrel 3, a discharge means 4 for evacuating the interior of the barrel, and a sputtering device 2 that is set inside the barrel and in which the barrel has a main shaft C oriented horizontally and rotates centered on the main shaft and the sputtering device forms a coating film on the surface of a powder 7 that has been placed in the barrel, wherein in order to install at least two targets 2 in the sputtering device, the sputtering device has one fixing part 10 per one target and when the targets are installed on the fixing parts, the respective targets are disposed parallel to each other at the same position with respect to the direction of the main shaft.
(FR) L'objectif de la présente invention est de fournir un appareil de revêtement de poudre qui évite tout mélange d'impuretés, est apte à former des films minces dans lesquels des éléments choisis librement ont été combinés et permet de répondre à l'exigence d'obtention d'un film mince uniforme. La présente invention concerne un appareil 100 de revêtement de poudre, qui comprend un cylindre 3, un moyen d'évacuation 4 pour l'évacuation de l'intérieur du cylindre et un dispositif de pulvérisation 2 disposé à l'intérieur du cylindre, le cylindre ayant un arbre principal C orienté horizontalement et l'appareil tournant de façon centrée sur l'arbre principal, et le dispositif de pulvérisation cathodique formant un film de revêtement sur la surface d'une poudre 7 qui a été placée dans le cylindre, où afin d'installer au moins deux cibles 2 dans le dispositif de pulvérisation, le dispositif de pulvérisation comporte une partie de fixation 10 par cible et, lorsque les cibles sont installées sur les parties de fixation, les cibles respectives sont disposées parallèlement l'une à l'autre à la même position par rapport à la direction de l'arbre principal.
(JA) 本発明は、不純物の混入がなく、自由に選択された元素を組み合わせた薄膜を成膜でき、得られる薄膜の組成が均一であることを満足する粉末コーティング装置を提供することを目的とする。 本発明に係る粉末コーティング装置は、バレル3と、バレル内を真空引きする排気手段4と、バレル内に設置されたスパッタリング装置2と、を有し、バレルは、主軸Cが水平方向を向いており、かつ、主軸を中心に回転し、スパッタリング装置は、バレルに入れられた粉末7の表面にコーティング膜を形成する粉末コーティング装置100において、スパッタリング装置は2つ以上のターゲット2を取り付けるために、ターゲット一つに付き固定部10を1つ有し、固定部にターゲットを取り付けたときに、各ターゲットは、主軸の方向に対して同一水準位置に互いに並列に配置されている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)