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1. WO2017014278 - 成膜装置

公開番号 WO/2017/014278
公開日 26.01.2017
国際出願番号 PCT/JP2016/071438
国際出願日 21.07.2016
IPC
C23C 14/48 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
48イオン注入法
C23C 14/32 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
24真空蒸着
32爆発によるもの;蒸発およびその後の蒸気のイオン化によるもの
CPC
C23C 14/32
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
24Vacuum evaporation
32by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours ; , e.g. ion-plating
C23C 14/48
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
48Ion implantation
出願人
  • 住友重機械工業株式会社 SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 北見 尚久 KITAMI Hisashi
  • 酒見 俊之 SAKEMI Toshiyuki
  • 山本 哲也 YAMAMOTO Tetsuya
  • 野本 淳一 NOMOTO Jyunichi
代理人
  • 長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki
  • 黒木 義樹 KUROKI Yoshiki
  • 柳 康樹 YANAGI Yasuki
優先権情報
2015-14379821.07.2015JP
2016-04664910.03.2016JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) FILM-FORMING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置
要約
(EN)
A film-forming apparatus for forming a film-forming material on an object on which a film is to be formed is provided with: a vacuum chamber for receiving said object on which a film is to be formed and forming a film; a film-forming unit for causing particles of said film-forming material to adhere to the object on which the film is to be formed inside the vacuum chamber; and a negative ion-generating unit for generating negative ions inside said vacuum chamber.
(FR)
La présente invention concerne un appareil de formation de film destiné à former un matériau filmogène sur un objet sur lequel un film doit être formé, l'appareil comprenant : une chambre à vide pour recevoir ledit objet sur lequel un film doit être formé et pour former un film ; une unité de formation de film pour amener des particules dudit matériau filmogène à adhérer à l'objet sur lequel le film doit être formé à l'intérieur de la chambre à vide ; et une unité de génération d'ions négatifs pour générer des ions négatifs à l'intérieur de ladite chambre à vide.
(JA)
成膜対象物に成膜材料を成膜する成膜装置であって、前記成膜対象物を収納し成膜処理を行う真空チャンバーと、前記真空チャンバー内において前記成膜材料の粒子を前記成膜対象物に付着させる成膜部と、前記真空チャンバー内に負イオンを生成する負イオン生成部と、を備える、成膜装置。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報