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1. (WO2017014264) 高純度テレフタル酸の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2017/014264 国際出願番号: PCT/JP2016/071393
国際公開日: 26.01.2017 国際出願日: 21.07.2016
IPC:
C07C 51/265 (2006.01) ,C07C 51/43 (2006.01) ,C07C 51/487 (2006.01) ,C07C 63/26 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.[JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324, JP
発明者: NAKAMURA, Goh; JP
FUJITA, Hideaki; JP
MURAKAMI, Kotaro; JP
代理人: INABA, Yoshiyuki; JP
ONUKI, Toshifumi; JP
NAITO, Kazuhiko; JP
優先権情報:
2015-14483722.07.2015JP
2015-14483822.07.2015JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING HIGH-PURITY TEREPHTHALIC ACID
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ACIDE TÉRÉPHTALIQUE À HAUTE PURETÉ
(JA) 高純度テレフタル酸の製造方法
要約: front page image
(EN) A method for producing high-purity terephthalic acid, comprising steps (a) to (c): (a) oxidizing a p-phenylene compound in a liquid phase to produce crude terephthalic acid crystals; (b) subjecting the crude terephthalic acid crystals to a catalytic hydrogenation treatment to produce a terephthalic acid crystal slurry; and (c) introducing the terephthalic acid crystal slurry to the top part of a mother liquor substitution column, then bringing the terephthalic acid crystals into contact with an upward flow of substitution water, which is introduced from the column bottom part of the mother liquor substitution column, while allowing the terephthalic acid crystals to settle in the column, and then drawing the terephthalic acid crystals from the column bottom part in the form of a slurry with the substitution water. In the method, (1) a mixing impeller is installed in a slurry layer in the column bottom part of the mother liquor substitution column, and the mixing impeller is rotated in such a manner that a mixing power becomes 0.1 to 1.0 kWh/m3 per unit area of the slurry layer to maintain the fluidability of the slurry layer, and (2) the substitution water is supplied through a substitution water supply port arranged in the mixing impeller.
(FR) La présente invention concerne un procédé de production d'acide téréphtalique à haute pureté, comprenant les étapes a) à c) consistant à : (a) oxyder un composé de p-phénylène dans une phase liquide pour produire des cristaux d'acide téréphtalique brut ; (b) soumettre les cristaux d'acide téréphtalique brut à un traitement d'hydrogénation catalytique pour produire une suspension épaisse de cristaux d'acide téréphtalique ; et (c) introduire la suspension épaisse de cristaux d'acide téréphtalique dans la partie supérieure d'une colonne de remplacement de solution mère, mettre ensuite les cristaux d'acide téréphtalique en contact avec un écoulement ascendant d'eau de remplacement, qui est introduit par la partie inférieure de la colonne de remplacement de solution mère, tout en permettant aux cristaux d'acide téréphtalique de se déposer dans la colonne, puis soutirer les cristaux d'acide téréphtalique de la partie inférieure de la colonne sous la forme d'une suspension épaisse avec l'eau de remplacement. Dans le procédé, (1) une hélice mélangeuse est installée dans une couche de la suspension épaisse dans la partie inférieure de la colonne de remplacement de solution mère, et l'hélice mélangeuse est entraînée en rotation de manière à ce qu'une puissance de mélange soit de 0,1 à 1,0 kWh/m3 par unité de surface de la couche de suspension épaisse pour maintenir la fluidité de la couche de suspension épaisse, et (2) l'eau de remplacement est fournie au moyen d'un orifice d'alimentation en eau de remplacement conçu dans l'hélice mélangeuse.
(JA) 以下の工程(a)~(c); (a)p-フェニレン化合物を液相酸化することにより粗テレフタル酸結晶を得る工程、 (b)前記粗テレフタル酸結晶を接触水素化処理してテレフタル酸結晶スラリーを得る工程、 (c)前記テレフタル酸結晶スラリーを母液置換塔の上部に導入し、テレフタル酸結晶を塔内で沈降させながら前記母液置換塔の塔底部から導入された置換水の上昇流と接触させ、前記テレフタル酸結晶を前記置換水とのスラリーとして塔底部より抜き出す工程、 を含む高純度テレフタル酸の製造方法であって、 (1)前記母液置換塔の塔底部のスラリー層中に撹拌翼を設け、前記撹拌翼を、攪拌動力が前記スラリー層の単位体積あたり0.1~1.0kWh/mとなるように回転させて前記スラリー層の流動性を保持し、 (2)前記置換水を、前記攪拌翼に設けた置換水供給口から供給する、 製造方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)