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1. (WO2017014191) 化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びレジストパターン形成方法、回路パターン形成方法、及び、精製方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/014191    国際出願番号:    PCT/JP2016/071018
国際公開日: 26.01.2017 国際出願日: 15.07.2016
IPC:
C07D 233/64 (2006.01), C07D 405/04 (2006.01), C08G 8/36 (2006.01), C08G 16/00 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/26 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324 (JP)
発明者: OKADA, Kana; (JP).
HORIUCHI, Junya; (JP).
MAKINOSHIMA, Takashi; (JP).
ECHIGO, Masatoshi; (JP)
代理人: INABA, Yoshiyuki; (JP)
優先権情報:
2015-145010 22.07.2015 JP
発明の名称: (EN) COMPOUND, RESIN, UNDERLAYER FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, RESIST PATTERN FORMING METHOD, CIRCUIT PATTERN FORMING METHOD, AND PURIFICATION METHOD
(FR) COMPOSÉ, RÉSINE, MATÉRIAU DE FORMATION DE FILM FORMANT SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, COMPOSITION POUR FORMER UN FILM FORMANT SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, FILM FORMANT SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE CIRCUIT, ET PROCÉDÉ DE PURIFICATION
(JA) 化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びレジストパターン形成方法、回路パターン形成方法、及び、精製方法
要約: front page image
(EN)A compound or resin represented by formula (1). (In formula (1), each X independently represents an oxygen atom, a sulfur atom or the absence of crosslinking; each R1 independently represents a group selected from the group consisting of a halogen group, a cyano group, a nitro group, an amino group, a hydroxyl group, a thiol group, a heterocyclic group, an alkyl group having 1-30 carbon atoms, an alkenyl group having 2-30 carbon atoms, an aryl group having 6-40 carbon atoms and combinations thereof, and in this connection, the alkyl group, the alkenyl group and the aryl group may contain an ether bond, a ketone bond or an ester bond; each R2 independently represents an alkyl group having 1-30 carbon atoms, an aryl group having 6-40 carbon atoms, an alkenyl group having 2-30 carbon atoms, a thiol group or a hydroxyl group, and in this connection, at least one of the R2 moieties represents a group containing a hydroxyl group or a thiol group; each m independently represents an integer of 0-7 (and in this connection, at least one of the m moieties represents an integer of 1-7); each p independently represents 0 or 1; q represents an integer of 0-2; and n represents 1 or 2.)
(FR)Composé ou résine représenté(e) par la formule (1). Dans la formule (1), chaque X représente indépendamment un atome d'oxygène, un atome de soufre ou l'absence de réticulation; chaque R1 représente indépendamment un groupe choisi dans le groupe constitué d'un groupe halogène, d'un groupe cyano, d'un groupe nitro, d'un groupe amino, d'un groupe hydroxyle, d'un groupe thiol, d'un groupe hétérocyclique, d'un groupe alkyle ayant de 1 à 30 atomes de carbone, d'un groupe alcényle ayant de 2 à 30 atomes de carbone, d'un groupe aryle ayant de 6 à 40 atomes de carbone et de combinaisons de ceux-ci, le groupe alkyle, le groupe alcényle et le groupe aryle pouvant contenir une liaison éther, une liaison cétone ou une liaison ester ; chaque R2 représente indépendamment un groupe alkyle ayant de 1 à 30 atomes de carbone, un groupe aryle ayant de 6 à 40 atomes de carbone, un groupe alcényle ayant de 2 à 30 atomes de carbone, un groupe thiol ou un groupe hydroxyle, au moins une des fractions R2 représentant un groupe contenant un groupe hydroxyle ou un groupe thiol ; chaque m représente indépendamment un nombre entier compris entre 0 et 7, (au moins une des fractions m représentant indépendamment un nombre entier compris entre 1 et 7); chaque p représente indépendamment 0 ou 1 ; q représente un nombre entier compris entre 0 et 2 ; et n représente 1 ou 2.
(JA)下記式(1)で表される化合物又は樹脂。 (式(1)中、Xは、各々独立して、酸素原子、硫黄原子又は無架橋であることを示し、Rは、各々独立して、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、チオール基、複素環基、炭素原子数1~30のアルキル基、炭素原子数2~30のアルケニル基、炭素原子数6~40のアリール基、及びそれらの組み合わせからなる群より選択され、ここで、該アルキル基、該アルケニル基及び該アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Rは、各々独立して、炭素数1~30のアルキル基、炭素数6~40のアリール基、炭素数2~30のアルケニル基、チオール基又は水酸基であり、ここで、Rの少なくとも1つは水酸基又はチオール基を含む基であり、mは、各々独立して、0~7の整数であり(ここで、mの少なくとも1つは1~7の整数である。)、pは各々独立して0又は1であり、qは0~2の整数であり、nは1又は2である。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)