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1. (WO2017013945) 弾性波装置及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/013945 国際出願番号: PCT/JP2016/066248
国際公開日: 26.01.2017 国際出願日: 01.06.2016
IPC:
H03H 9/145 (2006.01) ,H03H 3/08 (2006.01)
H 電気
03
基本電子回路
H
インビーダンス回路網,例.共振回路;共振器
9
電気機械的または電気音響的素子を含む回路網;電気機械的共振器
02
細部
125
駆動手段,例.電極,コイル
145
弾性表面波を用いる回路網のためのもの
H 電気
03
基本電子回路
H
インビーダンス回路網,例.共振回路;共振器
3
インピーダンス回路網,共振回路,共振器の製造に特有な装置または工程
007
電気機械的共振器または回路網の製造のためのもの
08
弾性表面波を用いる共振器または回路網の製造のためのもの
出願人:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
発明者:
菊知 拓 KIKUCHI, Taku; JP
木間 智裕 KONOMA, Chihiro; JP
坪川 雅 TSUBOKAWA, Masashi; JP
中川 亮 NAKAGAWA, Ryo; JP
代理人:
特許業務法人 宮▲崎▼・目次特許事務所 MIYAZAKI & METSUGI; 大阪府大阪市中央区常盤町1丁目3番8号 中央大通FNビル Chuo Odori FN Bldg., 3-8, Tokiwamachi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400028, JP
優先権情報:
2015-14276817.07.2015JP
発明の名称: (EN) ELASTIC WAVE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) DISPOSITIF À ONDES ÉLASTIQUES ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 弾性波装置及びその製造方法
要約:
(EN) Provided is an elastic wave device, whereby a strain of an IDT electrode can be reduced at the time when elastic waves are excited, and excellent IMD characteristics can be achieved. An elastic wave device 1 is provided with: a piezoelectric substrate 3 having an electrode forming surface 3a; and an IDT electrode 2 that is provided on the electrode forming surface 3a. The IDT electrode 2 has: an adhesion layer 4 that is provided on the electrode forming surface 3a; and a main electrode layer 6 that is provided on the adhesion layer 4. The adhesion layer 4 has first and second layers 4A, 4B. The first and second layers 4A, 4B have first and second side surfaces 4Ac, 4Bc, respectively. At least respective parts of the first and second side surfaces 4Ac, 4Bc, and the normal line direction Z of the electrode forming surface 3a form tilt angles θ1, θ2 of the first and second side surfaces 4Ac, 4Bc such that the area of a second layer 4B surface adhered to the main electrode layer 6 is smaller than the area of a first layer 4A surface adhered to the piezoelectric substrate 3. The tilt angle θ2 of the second side surface 4Bc is smaller than the tilt angle θ1 of the first side surface 4Ac.
(FR) La présente invention concerne un dispositif à ondes élastiques, grâce auquel une contrainte d'une électrode IDT peut être réduite au moment auquel des ondes élastiques sont excitées, et d'excellentes caractéristiques IMD peuvent être obtenues. Un dispositif à onde élastique (1) est pourvu : d'un substrat piézoélectrique (3) qui possède une surface de formation d'électrode (3a) ; et d'une électrode IDT (2) qui est prévue sur la surface de formation d'électrode (3a). L'électrode IDT (2) possède : une couche d'adhésion (4) qui est prévue sur la surface de formation d'électrode (3a) ; et une couche d'électrode principale (6) qui est prévue sur la couche d'adhésion (4). La couche d'adhésion (4) possède des première et seconde couches (4A, 4B). Les première et seconde couches (4A, 4B) possèdent des première et seconde surfaces latérales (4Ac, 4Bc), respectivement. Au moins des parties respectives des première et seconde surfaces latérales (4Ac, 4Bc), et la direction linéaire normale (Z) de la surface de formation d'électrode (3a) forment des angles d'inclinaison θ1, θ2 des première et seconde surfaces latérales (4Ac, 4Bc), de telle sorte que la superficie d'une surface de la seconde couche (4B) qui adhère à la couche d'électrode principale (6) soit plus petite que la superficie d'une surface de la première couche (4A) qui adhère au substrat piézoélectrique (3). L'angle d'inclinaison θ2 de la seconde surface latérale (4Bc) est inférieur à l'angle d'inclinaison θ1 de la première surface latérale (4Ac).
(JA) 弾性波が励振されたときのIDT電極の歪みを小さくすることができ、IMD特性を良好にすることができる、弾性波装置を提供する。 弾性波装置1は、電極形成面3aを有する圧電基板3と、電極形成面3a上に設けられているIDT電極2とを備える。IDT電極2は、電極形成面3a上に設けられた密着層4と、密着層4上に設けられた主電極層6とを有する。密着層4は、第1,第2の層4A,4Bを有する。第1,第2の層4A,4Bは第1,第2の側面4Ac,4Bcを有する。第1の層4Aが圧電基板3に密着している面の面積よりも第2の層4Bが主電極層6に密着している面の面積の方が小さくなるように、第1,第2の側面4Ac,4Bcの少なくとも一部と電極形成面3aの法線方向Zとが第1,第2の側面4Ac,4Bcの傾斜角度θ,θをなしている。第1の側面4Acの傾斜角度θよりも第2の側面4Bcの傾斜角度θの方が小さい。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)