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1. (WO2017013935) 研磨パッド及び研磨方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/013935 国際出願番号: PCT/JP2016/064775
国際公開日: 26.01.2017 国際出願日: 18.05.2016
IPC:
B24B 37/24 (2012.01) ,B24B 37/00 (2012.01)
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37
ラッピング機械または装置;附属装置
11
ラップ工具
20
平面を加工するためのラッピングパッド
24
パッドの材料の組成または特性に特徴のあるもの
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37
ラッピング機械または装置;附属装置
出願人:
株式会社フジミインコーポレーテッド FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目1番地1 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502, JP
発明者:
森永 均 MORINAGA Hitoshi; JP
玉井 一誠 TAMAI Kazusei; JP
田原 宗明 TAHARA Muneaki; JP
浅井 舞子 ASAI Maiko; JP
伊藤 友一 ITO Yuuichi; JP
代理人:
森 哲也 MORI Tetsuya; JP
優先権情報:
2015-14346417.07.2015JP
2016-06431228.03.2016JP
発明の名称: (EN) POLISHING PAD AND POLISHING METHOD
(FR) TAMPON DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
(JA) 研磨パッド及び研磨方法
要約:
(EN) Provided is a polishing pad capable, when polishing an object to be polished that has a protrusion and/or recess on the surface, of adequately polishing the parts near the protrusion or the inner surface of the recess on the surface of the object being polished. The polishing pad has a raised nap section (1) in which multiple fibers (12) of at least 2 mm length are raised on the surface of a base (11), and the mass of the fibers (12) is at least 250 g/m2. Said polishing pad is used for polishing an object (2) to be polished that contains metal, alloy or metal oxide material and has a protrusion (21) and/or a recess (22) on the surface.
(FR) L'invention concerne un tampon de polissage qui, lors du polissage d'un objet à polir présentant une saillie et/ou un renfoncement sur sa surface, est capable de polir adéquatement les parties à proximité de la saillie ou de la surface intérieure du renfoncement sur la surface de l'objet devant être poli. Le tampon de polissage présente une section de feutre rehaussé (1) dans laquelle de multiples fibres (12) d'au moins 2 mm de longueur sont dressées sur la surface d'une base (11), et la masse des fibres (12) est d'au moins 250 g/m2. Ledit tampon de polissage est utilisé pour polir un objet (2) à polir qui contient un matériau à base de métal, d'alliage ou d'oxyde métallique et qui présente une saillie (21) et/ou un renfoncement (22) sur la surface.
(JA) 表面に凸部及び凹部の少なくとも一方を有する研磨対象物の研磨において、研磨対象物の表面のうち凸部の近傍部分や凹部の内面まで十分に研磨することが可能な研磨パッドを提供する。研磨パッドは、長さ2mm以上の繊維(12)の複数が基部(11)の表面に立毛した立毛部(1)を有し、繊維(12)の質量が250g/m以上である。この研磨パッドは、金属、合金、又は金属酸化物材料を含有し且つ表面に凸部(21)及び凹部(22)の少なくとも一方を有する研磨対象物(2)の研磨に使用される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)