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1. (WO2017013904) メタルマスク基材、メタルマスク基材の管理方法、メタルマスク、および、メタルマスクの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/013904 国際出願番号: PCT/JP2016/059042
国際公開日: 26.01.2017 国際出願日: 22.03.2016
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
凸版印刷株式会社 TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都台東区台東1丁目5番1号 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016, JP
発明者:
田村 純香 TAMURA, Sumika; JP
三上 菜穂子 MIKAMI, Naoko; JP
藤戸 大生 FUJITO, Daisei; JP
西辻 清明 NISHITSUJI, Kiyoaki; JP
西 剛広 NISHI, Takehiro; JP
代理人:
恩田 誠 ONDA, Makoto; JP
優先権情報:
2015-14350917.07.2015JP
2015-17144031.08.2015JP
発明の名称: (EN) METAL MASK SUBSTRATE, METAL MASK SUBSTRATE CONTROL METHOD, METAL MASK, AND METAL MASK PRODUCTION METHOD
(FR) SUBSTRAT DE MASQUE MÉTALLIQUE, PROCÉDÉ DE COMMANDE DE SUBSTRAT DE MASQUE MÉTALLIQUE, MASQUE MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MASQUE MÉTALLIQUE
(JA) メタルマスク基材、メタルマスク基材の管理方法、メタルマスク、および、メタルマスクの製造方法
要約:
(EN) A metal mask substrate is provided with a metallic surface that has been formed such that a resist can be disposed thereupon. The specular reflectance of light incident upon the surface is at least 45.2%.
(FR) Un substrat de masque métallique comporte une surface métallique formée de telle sorte qu'une réserve peut être disposée sur celle-ci. La réflexion spéculaire d'une lumière incidente sur la surface est supérieure ou égale à 45,2 %.
(JA) メタルマスク基材は、レジストが配置されるように構成された金属製の表面を備え、表面に入射した光の正反射における反射率が、45.2%以上である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)