このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2017013903) メタルマスク基材、メタルマスク、および、メタルマスクの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/013903 国際出願番号: PCT/JP2016/059041
国際公開日: 26.01.2017 国際出願日: 22.03.2016
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
凸版印刷株式会社 TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都台東区台東1丁目5番1号 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016, JP
発明者:
藤戸 大生 FUJITO, Daisei; JP
西辻 清明 NISHITSUJI, Kiyoaki; JP
西 剛広 NISHI, Takehiro; JP
代理人:
恩田 誠 ONDA, Makoto; JP
優先権情報:
2015-14350917.07.2015JP
発明の名称: (EN) METAL MASK BASE, METAL MASK AND METHOD FOR PRODUCING METAL MASK
(FR) BASE DE MASQUE MÉTALLIQUE, MASQUE MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MASQUE MÉTALLIQUE
(JA) メタルマスク基材、メタルマスク、および、メタルマスクの製造方法
要約:
(EN) This metal mask base is provided with a metal surface that is configured such that a resist is arranged thereon. The three-dimensional surface roughness Sa of the surface is 0.11 μm or less, and the three-dimensional surface roughness Sz of the surface is 3.17 μm or less.
(FR) La base de masque métallique d'après la présente invention comprend une surface métallique conçue de telle sorte qu'une réserve est disposée sur celle-ci. La rugosité de surface tridimensionnelle Sa de la surface est inférieure ou égale à 0,11 µm. La rugosité de surface tridimensionnelle Sz de la surface est inférieure ou égale à 3,17 µm.
(JA) メタルマスク基材は、レジストが配置されるように構成された金属製の表面を備え、表面の三次元表面粗さSaが0.11μm以下であり、表面の三次元表面粗さSzが3.17μm以下である。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)