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1. (WO2017010540) インプリント用のテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/010540 国際出願番号: PCT/JP2016/070800
国際公開日: 19.01.2017 国際出願日: 14.07.2016
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 33/42 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
33
型またはコア;その細部または付属装置
42
成形面の形状,例.リブ,溝,に特徴があるもの
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
59
表面成形,例.エンボス;そのための装置
02
機械的手段,例.プレス,によるもの
出願人:
芝浦メカトロニクス株式会社 SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION [JP/JP]; 神奈川県横浜市栄区笠間二丁目5番1号 5-1, Kasama 2-chome, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2478610, JP
発明者:
出村 健介 DEMURA,Kensuke; JP
中村 聡 NAKAMURA,Satoshi; JP
松嶋 大輔 MATSUSHIMA,Daisuke; JP
幡野 正之 HATANO,Masayuki; JP
柏木 宏之 KASHIWAGI,Hiroyuki; JP
代理人:
特許業務法人三澤特許事務所 MISAWA PATENT OFFICE, P.C.; 東京都新宿区西新宿7丁目15番8号 日販ビル Nippan Bldg., 15-8, Nishishinjuku 7-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023, JP
優先権情報:
2015-14042514.07.2015JP
発明の名称: (EN) IMPRINTING TEMPLATE MANUFACTURING DEVICE AND METHOD
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE MATRICE D'IMPRESSION
(JA) インプリント用のテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法
要約:
(EN) An imprinting template manufacturing device (1) according to an embodiment is provided with: a supply head (11) which includes a raised portion with an uneven pattern formed thereon, and which supplies a liquid-repelling liquid material to a template W on a stage; a transport unit (20) which causes the supply head (11) and the stage to move relative to one another in a direction along the stage; a control unit (40) which controls the supply head (11) and the transport unit (20) so that the supply head (11) can coat at least a side surface of the raised portion with the liquid-repelling liquid material while avoiding the uneven pattern; and a washing unit (30) which supplies a liquid to the template W coated with the liquid-repelling liquid material. The liquid-repelling liquid material includes a liquid-repelling component and a non-liquid-repelling component which react with the surface of the template W, and a volatile solvent which dissolves the liquid-repelling component. The liquid is a fluorine-based volatile solvent that dissolves the non-liquid-repelling component.
(FR) L'invention concerne, selon un mode de réalisation, un dispositif de fabrication (1) de matrice d'impression comprenant : une tête d'alimentation (11) qui contient une portion surélevée sur laquelle est formé un motif irrégulier et qui apporte un matériau liquide de répulsion de liquide à une matrice (W) sur une platine ; une unité de transport (20) qui amène la tête d'alimentation (11) et la platine à se déplacer l'une par rapport à l'autre dans une direction le long de la platine ; une unité de commande (40) qui commande la tête d'alimentation (11) et l'unité de transport (20), de sorte que la tête d'alimentation (11) puisse revêtir au moins une surface latérale de la portion surélevée avec le matériau liquide de répulsion de liquide, tout en évitant le motif irrégulier ; et une unité de lavage (30) qui fournit un liquide à la matrice (W) revêtue du matériau liquide de répulsion de liquide. Le matériau liquide de répulsion de liquide comprend un composant de répulsion de liquide et un composant ne repoussant pas le liquide qui réagissent avec la surface de la matrice (W) et un solvant volatil qui dissout le composant de répulsion de liquide. Le liquide est un solvant volatil à base de fluor qui dissout le composant ne repoussant pas le liquide.
(JA) 実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置(1)は、凹凸パターンが形成された凸部を有する、ステージ上のテンプレートWに液状の撥液材を供給する供給ヘッド(11)と、供給ヘッド(11)及びステージをステージに沿う方向に相対移動させる搬送部(20)と、供給ヘッド(11)が凹凸パターンを避けて少なくとも凸部の側面に液状の撥液材を塗布するように供給ヘッド(11)及び搬送部(20)を制御する制御部(40)と、液状の撥液材が塗布されたテンプレートWに液体を供給する洗浄部(30)とを備える。液状の撥液材は、テンプレートWの表面と反応する撥液成分及び非撥液成分と、撥液成分を溶かす揮発性溶剤とを含む。前述の液体は、非撥液成分を溶かすフッ素系の揮発性溶剤である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)