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1. (WO2017010521) 透明電極フィルム、調光素子、および透明電極フィルムの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/010521 国際出願番号: PCT/JP2016/070707
国際公開日: 19.01.2017 国際出願日: 13.07.2016
IPC:
H01B 5/14 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,G02F 1/1333 (2006.01) ,H01B 13/00 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
B
ケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
5
形を特徴とする非絶縁導体または導電物体
14
絶縁支持体上に導電層または導電フイルムを有するもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7
層間の関係を特徴とする積層体,すなわち本質的に異なる物理的性質を有する層または層の相互連続を特徴とする積層体
02
物理的性質,例.堅さ,に関するもの
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
H 電気
01
基本的電気素子
B
ケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
13
導体またはケーブルを製造するために特に使用する装置または方法
出願人:
株式会社カネカ KANEKA CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市北区中之島二丁目3番18号 3-18, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308288, JP
発明者:
岡本 紳平 OKAMOTO, Shimpei; JP
中村 淳一 NAKAMURA, Junichi; JP
▲高▼橋 祐司 TAKAHASHI, Yuji; JP
藤本 貴久 FUJIMOTO, Takahisa; JP
櫛崎 貴吉 KUSHIZAKI, Takayoshi; JP
玉井 仁 TAMAI, Hitoshi; JP
代理人:
新宅 将人 SHINTAKU, Masato; JP
優先権情報:
2015-14240516.07.2015JP
発明の名称: (EN) TRANSPARENT ELECTRODE FILM, DIMMING ELEMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT ELECTRODE FILM
(FR) FILM D'ÉLECTRODE TRANSPARENT, ÉLÉMENT GRADATEUR, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM D'ÉLECTRODE TRANSPARENT
(JA) 透明電極フィルム、調光素子、および透明電極フィルムの製造方法
要約:
(EN) A transparent electrode film (10) in which a transparent electrode (35) is provided on a transparent film substrate (12), the transparent electrode (35) including a transparent electroconductive layer (15) and an electroconductive metal pattern layer (13). The electroconductive metal pattern layer is patterned in the in-plane direction of the transparent film substrate. In the regions in which the electroconductive metal pattern layer is provided, the transparent electroconductive layer and a protective layer (11) are provided, and the electroconductive metal pattern layer is disposed on the side nearer the transparent film substrate than the transparent electroconductive layer and the protective layer. The protective layer comprises at least one material selected from the group consisting of noble metals and oxides. The transparent electroconductive layer is also provided to openings (23) in which the electroconductive metal pattern layer is not provided.
(FR) L'invention concerne un film d'électrode transparent (10) dans lequel une électrode transparente (35) est placée sur un substrat de film transparent (12), l'électrode transparente (35) comprenant une couche électroconductrice transparente (15) et une couche de motif métallique électroconducteur (13). Le motif de la couche de motif métallique électroconducteur est formé dans la direction plane du substrat de film transparent. Dans les zones dans lesquelles la couche de motif métallique électroconducteur est disposée, la couche électroconductrice transparente et une couche de protection (11) sont disposées, et la couche de motif métallique électroconducteur est disposée du côté plus proche du substrat de film transparent que la couche électroconductrice transparente et la couche de protection. La couche de protection comprend au moins un matériau choisi dans le groupe constitué des métaux nobles et des oxydes. La couche électroconductrice transparente est également disposée dans des ouvertures (23) dans lesquelles la couche de motif métallique électroconducteur n'est pas disposée.
(JA) 透明電極フィルム(10)は、透明フィルム基材(12)上に、透明導電層(15)および導電性金属パターン層(13)を含む透明電極(35)を備える。導電性金属パターン層は、透明フィルム基材の面内方向にパターニングされている。導電性金属パターン層が設けられた領域では、透明導電層および保護層(11)が設けられており、導電性金属パターン層は、透明導電層および保護層よりも、透明フィルム基材に近い側に配置されている。保護層は、貴金属および酸化物からなる群から選択される少なくとも1種により構成されている。透明導電層は、導電性金属パターン層が設けられていない開口部(23)にも設けられている。
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アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)