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1. (WO2017010512) 蒸着方法及び蒸着装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/010512    国際出願番号:    PCT/JP2016/070682
国際公開日: 19.01.2017 国際出願日: 13.07.2016
IPC:
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522 (JP)
発明者: OCHI Takashi; (--).
KAWATO Shinichi; (--).
MATSUNAGA Kazuki; (--).
KOBAYASHI Yuhki; (--).
KIKUCHI Katsuhiro; (--).
ICHIHARA Masahiro; (JP)
代理人: NISHIZAWA Kazuyoshi; (JP)
優先権情報:
2015-141553 15.07.2015 JP
発明の名称: (EN) VAPOR DEPOSITION METHOD AND VAPOR DEPOSITION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着方法及び蒸着装置
要約: front page image
(EN)Limiting nozzles (61a1-61c6) for limiting directionality in an in-plane direction of first through third vapor deposition particles (91a, 91b, 91c) emitted toward a substrate (10) from first through third vapor deposition source openings are provided in the first through third vapor deposition source openings (61a, 61b, 61c).
(FR)Des buses de limitation (61a1-61c6) destinées à limiter la directionnalité dans une direction dans le plan d'une première, d'une deuxième et d'une troisième particule de dépôt en phase vapeur (91a, 91b, 91c) émises en direction d'un substrat (10) par une première, une deuxième et une troisième ouverture de source de dépôt en phase vapeur sont placées dans la première, la deuxième et la troisième ouverture de source de dépôt en phase vapeur (61a, 61b, 61c).
(JA)第1から第3蒸着源開口(61a,61b,61c)には、これら第1から第3蒸着源開口から放出されて基板(10)へ向かう第1から第3蒸着粒子(91a,91b,91c)の面内方向における指向性を制限する制限ノズル(61a1~61c6)が設けられる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)