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1. WO2017010343 - 導電ペースト、タッチセンサー部材及び導電パターンの製造方法

公開番号 WO/2017/010343
公開日 19.01.2017
国際出願番号 PCT/JP2016/069865
国際出願日 05.07.2016
IPC
H01B 1/22 2006.01
H電気
01基本的電気素子
Bケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
1導電材料によって特徴づけられる導体または導電物体;導体としての材料の選択
20非導電有機物質中に分散された導電物質
22金属または合金を含む導電物質
G06F 3/041 2006.01
G物理学
06計算;計数
F電気的デジタルデータ処理
3計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041変換手段によって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
G06F 3/044 2006.01
G物理学
06計算;計数
F電気的デジタルデータ処理
3計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041変換手段によって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
044容量性手段によるもの
H01B 1/00 2006.01
H電気
01基本的電気素子
Bケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
1導電材料によって特徴づけられる導体または導電物体;導体としての材料の選択
H01B 5/14 2006.01
H電気
01基本的電気素子
Bケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
5形を特徴とする非絶縁導体または導電物体
14絶縁支持体上に導電層または導電フイルムを有するもの
H01B 13/00 2006.01
H電気
01基本的電気素子
Bケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
13導体またはケーブルの製造に特に適合した装置または方法
CPC
C09D 5/24
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
5Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced
24Electrically-conducting paints
G03F 7/0042
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
0042with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
G03F 7/0047
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
0047characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
G03F 7/027
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
G03F 7/033
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
032with binders
033the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
G03F 7/168
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
16Coating processes; Apparatus therefor
168Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
出願人
  • 東レ株式会社 TORAY INDUSTRIES, INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 兒玉年矢 KODAMA, Toshiya
  • 梶山達也 KAJIYAMA, Tatsuya
優先権情報
2015-13846310.07.2015JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CONDUCTIVE PASTE, TOUCH SENSOR MEMBER AND CONDUCTIVE PATTERN MANUFACTURING METHOD
(FR) PÂTE CONDUCTRICE, ÉLÉMENT DE CAPTEUR TACTILE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF CONDUCTEUR
(JA) 導電ペースト、タッチセンサー部材及び導電パターンの製造方法
要約
(EN)
The objective of the present invention is to provide a conductive paste that is capable of stably maintaining contact resistance with transparent electrode patterns, even for minute contact areas, and that is capable of forming bridge patterns with superior pattern accuracy, flexibility and visibility at a low cost. The present invention provides a conductive paste that contains (A) metal particles, (B) a tin compound, (C) a photosensitive component and (D) a photoinitiator, wherein (B) the tin compound is selected from the group consisting of indium tin oxide, antimony-doped tin oxide, phosphor-doped tin oxide, fluorine-doped tin oxide and tin oxide and the proportion of the (B) tin compound with respect to the total solid content is from 2 to 20 wt%.
(FR)
L'objectif de la présente invention est de produire une pâte conductrice qui peut maintenir de façon stable la résistance de contact avec des motifs d'électrode transparente, même pour des zones de contact minuscules, et qui peut former des motifs en pont avec une précision de motif, une flexibilité et une visibilité excellentes à un faible coût. La présente invention porte sur une pâte conductrice qui contient (A) des particules métalliques, (B) un composé d'étain, (C) un composant photosensible et (D) un photo-initiateur, le composé d'étain (B) étant choisi dans le groupe comprenant l'oxyde d'indium-étain, l'oxyde d'étain dopé à l'antimoine, l'oxyde d'étain dopé au phosphore, l'oxyde d'étain dopé au fluor et l'oxyde d'étain, et la proportion du composé d'étain (B) par rapport à la teneur totale en solides étant de 2 à 20 % en poids.
(JA)
本発明の目的は、微小な接触面積であっても透明電極パターンとの接触抵抗を安定的に担保可能であり、かつ、パターン精度、屈曲性及び視認性に優れるブリッジパターンを低コストで形成することが可能な、導電ペーストを提供することである。 本発明は、(A)金属粒子、(B)スズ化合物、(C)感光性成分及び(D)光重合開始剤を含有し、上記(B)スズ化合物は、インジウムスズ酸化物、アンチモンドープ酸化スズ、リンドープ酸化スズ、フッ素ドープ酸化スズ及び酸化スズからなる群から選ばれ、かつ、全固形分に占める上記(B)スズ化合物の割合が、2~20質量%である、導電ペーストを提供する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報