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1. (WO2017010262) 撮像装置、製造装置、製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/010262 国際出願番号: PCT/JP2016/068782
国際公開日: 19.01.2017 国際出願日: 24.06.2016
IPC:
H01L 27/146 (2006.01) ,H01L 27/14 (2006.01) ,H04N 5/369 (2011.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
14
赤外線,可視光,短波長の電磁波または粒子線輻射に感応する半導体構成部品で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御するかのどちらかに特に適用されるもの
144
輻射線によって制御される装置
146
固体撮像装置構造
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
14
赤外線,可視光,短波長の電磁波または粒子線輻射に感応する半導体構成部品で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御するかのどちらかに特に適用されるもの
H 電気
04
電気通信技術
N
画像通信,例.テレビジョン
5
テレビジョン方式の細部
30
光または類似信号から電気信号への変換
335
固体撮像素子を用いるもの
369
固体撮像素子の構造,固体撮像素子と関連する回路に特徴のあるもの
出願人:
ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 SONY SEMICONDUCTOR SOLUTIONS CORPORATION [JP/JP]; 神奈川県厚木市旭町四丁目14番1号 4-14-1, Asahi-cho, Atsugi-shi, Kanagawa 2430014, JP
発明者:
重歳 卓志 SHIGETOSHI Takushi; JP
代理人:
西川 孝 NISHIKAWA Takashi; JP
優先権情報:
2015-13843210.07.2015JP
発明の名称: (EN) IMAGING DEVICE, MANUFACTURING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'IMAGERIE, DISPOSITIF DE FABRICATION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 撮像装置、製造装置、製造方法
要約:
(EN) The present technology pertains to an imaging device, a manufacturing device, and a manufacturing method that enable suppression of occurrence of color mixing. The present invention is provided with an organic photoelectric conversion film formed of an organic material, a lower electrode provided below the organic photoelectric conversion film, and an upper electrode provided above the organic photoelectric conversion film. The organic photoelectric conversion film, the lower electrode, and the upper electrode are formed so as to have a separated portion between pixels. The present invention is further provided with a passivation layer on the upper electrode, and the same material as that of the passivation layer fills the separated portion. The present technology is applicable to an imaging device that suppresses color mixing in an organic photoelectric conversion film.
(FR) La présente invention se rapporte à un dispositif d'imagerie, à un dispositif de fabrication et à un procédé de fabrication qui permettent la suppression de la survenue d'un mélange de couleurs. La présente invention comprend un film de conversion photoélectrique organique formé d'un matériau organique, une électrode inférieure disposée en dessous du film de conversion photoélectrique organique et une électrode supérieure disposée au-dessus du film de conversion photoélectrique organique. Le film de conversion photoélectrique organique, l'électrode inférieure et l'électrode supérieure sont formés de sorte à avoir une partie séparée entre des pixels. La présente invention comporte en outre une couche de passivation sur l'électrode supérieure et le même matériau que celui de la couche de passivation remplit la partie séparée. La présente invention peut être appliquée à un dispositif d'imagerie qui supprime un mélange de couleurs dans un film de conversion photoélectrique organique.
(JA) 本技術は、混色の発生を抑制することができるようにする撮像装置、製造装置、製造方法に関する。 有機材料で構成された有機光電変換膜と、有機光電変換膜の下部に設けられている下部電極と、有機光電変換膜の上部に設けられている上部電極とを備え、有機光電変換膜、下部電極、および上部電極は、画素間に分離部分を有する状態で形成されている。上部電極上にパッシベーション層をさらに有し、パッシベーション層と同一の材料が、分離部分に充填されている。本技術は、有機光電変換膜での混色を抑制した撮像装置に適用できる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)