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1. (WO2017010110) 三次元計測装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/010110    国際出願番号:    PCT/JP2016/050553
国際公開日: 19.01.2017 国際出願日: 08.01.2016
IPC:
G01B 11/25 (2006.01), G06T 1/00 (2006.01)
出願人: CKD CORPORATION [JP/JP]; 250, Ouji 2-chome, Komaki-shi, Aichi 4858551 (JP)
発明者: OHYAMA Tsuyoshi; (JP).
SAKAIDA Norihiko; (JP).
MAMIYA Takahiro; (JP).
ISHIGAKI Hiroyuki; (JP)
代理人: KAWAGUCHI Mitsuo; (JP)
優先権情報:
2015-140225 14.07.2015 JP
発明の名称: (EN) THREE-DIMENSIONAL-MEASUREMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE MESURE TRIDIMENSIONNELLE
(JA) 三次元計測装置
要約: front page image
(EN)Provided is a three-dimensional-measurement device whereby higher-precision measurement can be performed in a shorter time when performing three-dimensional measurement using a phase shift method. A substrate inspection device 1 is provided with two illumination devices 4A, 4B for radiating a predetermined light pattern to a printed circuit board 2, a camera 5 for capturing an image of a portion irradiated by the light pattern, and a control device 6 for performing various types of image processing, computational processing, and the like. The present invention is configured so that after first image processing is executed under a first light pattern from the first illumination device 4A, second image processing can be performed under a second light pattern from the second illumination device 4B without waiting for completion of switching processing of a first liquid crystal grating 4Ab. In measurement pertaining to the second light pattern, height measurement is performed by a phase shift method on the basis of two kinds of image data captured under the second light pattern, the phase of which is changed in two ways, using a relationship between offset and gain determined by a predetermined imaging condition, and the value of the offset or gain determined from the luminance values of pixels in image data.
(FR)L'invention concerne un dispositif de mesure tridimensionnelle permettant de prendre une mesure de précision plus élevée en un temps plus court lors de la prise d'une mesure tridimensionnelle au moyen d'une méthode de déphasage. Un dispositif 1 d'inspection de substrat est pourvu de deux dispositifs d'éclairement 4A, 4B servant à soumettre une carte de circuit imprimé 2 à un rayonnement ayant un motif de lumière prédéfini, d'une caméra 5 servant à capturer une image d'une partie soumise au rayonnement du motif de lumière, et d'un dispositif de commande 6 servant à effectuer divers types de traitement d'image, de traitement de calcul, et analogues. La présente invention est conçue de sorte que, après l'exécution d'un premier traitement d'image sous un premier motif de lumière provenant du premier dispositif d'éclairement 4A, un second traitement d'image puisse être exécuté sous un second motif de lumière provenant du second dispositif d'éclairement 4B sans attendre l'achèvement d'un traitement de commutation d'un premier réseau de cristaux liquides 4Ab. Lors d'une mesure se rapportant au second motif de lumière, une mesure de hauteur est effectuée par une méthode de déphasage sur la base de deux sortes de données d'image capturées sous le second motif de lumière, dont la phase est modifiée de deux manières, au moyen d'une relation entre un décalage et un gain déterminée par une condition d'imagerie prédéfinie, et de la valeur du décalage ou du gain déterminée à partir des valeurs de luminance de pixels de données d'image.
(JA)位相シフト法を利用した三次元計測を行うにあたり、より高精度な計測をより短時間で実現することのできる三次元計測装置を提供する。基板検査装置1は、プリント基板2に対し所定の光パターンを照射する2つの照明装置4A,4Bと、光パターンの照射された部分を撮像するカメラ5と、各種画像処理や演算処理等を行う制御装置6とを備えている。そして、第1照射装置4Aの第1光パターンの下で第1撮像処理を実行した後、第1液晶格子4Abの切替処理の完了を待つことなく、第2照射装置4Bの第2光パターンの下で第2撮像処理を実行可能とする。第2光パターンに係る計測では、所定の撮像条件により定まるゲイン及びオフセットの関係と、画像データ上の各画素の輝度値から定まるゲイン又はオフセットの値とを利用して、2通りに位相変化させた第2光パターンの下で撮像した2通りの画像データを基に位相シフト法により高さ計測を行う。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)