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1. WO2017007010 - ケイ素含有樹脂組成物

公開番号 WO/2017/007010
公開日 12.01.2017
国際出願番号 PCT/JP2016/070239
国際出願日 08.07.2016
IPC
C08L 83/04 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L高分子化合物の組成物
83主鎖のみにいおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物
04ポリシロキサン
C08K 5/101 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
K無機または非高分子有機物質の添加剤としての使用(ペイント,インキ,ワニス,染料,艶出剤,接着剤C09)
5有機配合成分の使用
04酸素含有化合物
10エステル;エーテルエステル
101モノカルボン酸の
C08L 83/16 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L高分子化合物の組成物
83主鎖のみにいおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物
16全てのけい素原子が酸素原子以外の結合によって結合されているもの
C09D 7/12 2006.01
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
Dコーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
7グループC09D5/00に分類されない塗料組成物の特色;塗料組成物に成分を混合するためのプロセス
12他の添加物
C09D 183/04 2006.01
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
Dコーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
183主鎖のみに,いおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物に基づくコーティング組成物;そのような重合体の誘導体に基づくコーティング組成物
04ポリシロキサン
C09D 183/16 2006.01
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
Dコーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
183主鎖のみに,いおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物に基づくコーティング組成物;そのような重合体の誘導体に基づくコーティング組成物
16全てのけい素原子が酸素原子以外の結合によって結合されているもの
CPC
C07C 69/14
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
69Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
02Esters of acyclic saturated monocarboxylic acids having the carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or to hydrogen
12Acetic acid esters
14of monohydroxylic compounds
C08G 77/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
77Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
04Polysiloxanes
C08G 77/60
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
77Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
60in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
C08J 2383/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G
2383Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
04Polysiloxanes
C08J 2383/16
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G
2383Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
16in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
C08J 5/18
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G
5Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
18Manufacture of films or sheets
出願人
  • 東京応化工業株式会社 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 千坂 博樹 CHISAKA, Hiroki
  • 黒子 麻祐美 KUROKO, Mayumi
  • 野田 国宏 NODA, Kunihiro
  • 塩田 大 SHIOTA, Dai
代理人
  • 正林 真之 SHOBAYASHI, Masayuki
優先権情報
2015-13806409.07.2015JP
2015-24791718.12.2015JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SILICON-CONTAINING RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE COMPRENANT UN SILICIUM
(JA) ケイ素含有樹脂組成物
要約
(EN)
Provided are a silicon-containing resin composition with which it is possible to form a silica-based coating film in which generation of cracks is minimized, a method for forming a silica-based coating film using the silicon-containing resin composition, and a crack-free silica-based coating film formed using the silicon-containing resin composition. A silicon-containing resin composition including (A) a silicon-containing resin and (S) a solvent, wherein one or more selected from siloxane resins and polysilanes is used as the (A) silicon-containing resin, and the (S) solvent contains a cycloalkyl acetate having a specific structure. Cyclohexyl acetate is preferably used as the cycloalkyl acetate.
(FR)
L’invention fournit une composition de résine comprenant un silicium qui permet de former un revêtement à base de silice dont la fissuration est inhibée, un procédé de formation de revêtement à base de silice mettant en œuvre cette composition de résine comprenant un silicium, et un revêtement à base de silice sans fissure formé à l’aide de cette composition de résine comprenant un silicium. Cette composition de résine comprenant un silicium contient (A) une résine comprenant un silicium, et (S) un solvant. Au moins un élément choisi parmi une résine siloxane et un polysilane, est mis en œuvre en tant que (A) résine comprenant un silicium, et (S) le solvant comprend un acétate de cycloalkyle de structure spécifique. Un acétate de cyclohexyle peut être mis en œuvre de manière adéquate en tant qu’acétate de cycloalkyle.
(JA)
クラックの発生が抑制されたシリカ系被膜を形成できるケイ素含有樹脂組成物と、当該ケイ素含有樹脂組成物を用いるシリカ系被膜の形成方法と、当該ケイ素含有樹脂組成物を用いて形成されたクラックのないシリカ系被膜とを提供する。 (A)ケイ素含有樹脂と、(S)溶剤とを含む、ケイ素含有樹脂組成物において、(A)ケイ素含有樹脂として、シロキサン樹脂、及びポリシランから選択される1種以上を用い、特定の構造のシクロアルキルアセテートを(S)溶剤に含有させる。シクロアルキルアセテートとしては、シクロヘキシルアセテートが好適に使用される。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報