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1. (WO2017007004) アクティブマトリクス基板、表示装置、及び表示装置の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/007004 国際出願番号: PCT/JP2016/070179
国際公開日: 12.01.2017 国際出願日: 07.07.2016
IPC:
G09F 9/30 (2006.01) ,G02F 1/1333 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01) ,G02F 1/1368 (2006.01) ,G09F 9/00 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
30
必要な文字が個々の要素を組み合わせることによって形成されるもの
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1335
セルと光学部材,例.偏光子,反射鏡,の構造的組合せ
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
136
半導体の層または基板と構造上組み合された液晶セル,例.集積回路の一部を構成するセル
1362
アクティブマトリックスセル
1368
スイッチング素子が三端子の素子であるもの
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
岡部 達 OKABE Tohru; --
錦 博彦 NISHIKI Hirohiko; --
原 猛 HARA Takeshi; --
小坂 知裕 KOSAKA Tomohiro; --
石田 和泉 ISHIDA Izumi; --
村重 正悟 MURASHIGE Shogo; --
代理人:
川上 桂子 KAWAKAMI Keiko; JP
優先権情報:
2015-13764009.07.2015JP
2015-14344817.07.2015JP
発明の名称: (EN) ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT À MATRICE ACTIVE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) アクティブマトリクス基板、表示装置、及び表示装置の製造方法
要約:
(EN) The present invention reduces the number of production steps of an active matrix substrate. This active matrix substrate comprising an insulating substrate 100 which is provided with a light-transmitting region that transmits light and a light-blocking region that blocks light is provided with: a colored light-blocking film 201 that is formed in the light-blocking region of the insulating substrate 100 and contains carbon particles in a transparent matrix; an inorganic film 202 that is formed on the light-blocking film 201; a light-transmitting film 204 that is formed in the light-transmitting region of the insulating substrate 100 and contains transparent carbon oxide particles in a transparent matrix; a gate line 111 that is arranged on the inorganic film 202; a gate insulating film 101 that is arranged on the gate line 111; thin film transistors 300 that are arranged in a matrix on the gate insulating film 101; and a data line that is arranged on the light-blocking film 201 so as to intersect with the gate line 111 and is electrically connected to the thin film transistors 300.
(FR) La présente invention réduit le nombre d'étapes de production d'un substrat à matrice active. Ce substrat à matrice active, comprenant un substrat isolant (100) qui est pourvu d'une région transmettant la lumière qui transmet la lumière et d'une région de blocage de la lumière qui bloque la lumière, est muni : d'un film coloré (201) bloquant la lumière qui est formé dans la région bloquant la lumière du substrat isolant (100) et qui contient des particules de carbone dans une matrice transparente ; d'un film inorganique (202) qui est formé sur le film (201) bloquant la lumière ; d'un film (204) transmettant la lumière qui est formé dans la région transmettant la lumière du substrat isolant (100) et qui contient des particules d'oxyde de carbone transparentes dans une matrice transparente ; d'une ligne de grille (111) qui est disposée sur le film inorganique (202) ; d'un film (101) d'isolation de grille qui est disposé sur la ligne de grille (111) ; de transistors à couche mince (300) qui sont agencés dans une matrice sur le film (101) d'isolation de grille ; et d'une ligne de données qui est disposée sur le film (201) bloquant la lumière (201) de façon à croiser la ligne de grille (111) et qui est électriquement raccordée aux transistors à couche mince (300).
(JA)  アクティブマトリクス基板の製造工程数を低減する。光を透過する光透過領域と、光を遮光する遮光領域とが形成された絶縁基板100を有するアクティブマトリクス基板は、絶縁基板100上の遮光領域に形成され、透明な母材にカーボン粒子を含有する、着色した遮光膜201と、遮光膜201の上に形成された無機膜202と、絶縁基板100の光透過領域に形成され、透明な母材に透明の酸化カーボン粒子を含有する光透過膜204と、無機膜202の上に設けられたゲート線111と、ゲート線111の上に設けられたゲート絶縁膜101と、ゲート絶縁膜101の上にマトリクス状に設けられた薄膜トランジスタ300と、遮光膜201の上にゲート線111と交差するように設けられ、薄膜トランジスタ300と電気的に接続されるデータ線と、を備える。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)