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1. (WO2017006821) 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、有機半導体素子の製造方法、有機ELディスプレイの製造方法、及び蒸着マスク
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/006821 国際出願番号: PCT/JP2016/069250
国際公開日: 12.01.2017 国際出願日: 29.06.2016
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,B23K 26/382 (2014.01) ,C23C 14/24 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
[IPC code unknown for B23K 26/382]
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
大日本印刷株式会社 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 1-1, Ichigaya-kagacho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001, JP
発明者:
武田 利彦 TAKEDA Toshihiko; JP
穂刈 久実子 HOKARI Kumiko; JP
曽根 康子 SONE Yasuko; JP
小幡 勝也 OBATA Katsunari; JP
代理人:
特許業務法人 インテクト国際特許事務所 INTECT INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区麹町四丁目7番2号 Daiwa麹町4丁目ビル4階 Daiwa Kojimachi 4-chome Bldg. 4F, 4-7-2, Kojimachi, Chiyoda-ku, Tokyo 1020083, JP
優先権情報:
2015-13480503.07.2015JP
2015-13480603.07.2015JP
2016-12811428.06.2016JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING DEPOSITION MASK, DEPOSITION MASK PREPARATION BODY, METHOD FOR PRODUCING ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING ORGANIC EL DISPLAY, AND DEPOSITION MASK
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MASQUE DE DÉPÔT, CORPS DE PRÉPARATION DE MASQUE DE DÉPÔT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ÉLÉMENT SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ÉCRAN À DIODES ÉLECTROLUMINESCENTES ORGANIQUES ET MASQUE DE DÉPÔT
(JA) 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、有機半導体素子の製造方法、有機ELディスプレイの製造方法、及び蒸着マスク
要約:
(EN) This method for producing a deposition mask comprises steps of: preparing a deposition mask preparation body having a metal mask on one surface of a resin plate for a resin mask and a protective sheet on the other surface of the resin plate, the protective sheet having a peel strength as determined in accordance with JIS Z-0237:2009 of 0.0004 N/10 mm (inclusive) to 0.2 N/10 mm (exclusive); irradiating the resin plate of the deposition mask preparation body with laser light from the metal mask side to form resin mask openings corresponding to a pattern to be formed on the resin plate by deposition; and removing the protective sheet from the resin mask with the resin mask openings corresponding to the pattern to be formed by deposition.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un masque de dépôt qui comprend les étapes consistant à : préparer un corps de préparation de masque de dépôt ayant un masque métallique sur une surface d'une plaque de résine pour un masque de résine et une feuille de protection sur l'autre surface de la plaque de résine, la feuille de protection ayant une résistance au pelage, déterminée selon la norme JIS Z -0237:2009, de 0,0004 N/10 mm (inclus) à 0,2 N/10 mm (exclus) ; exposer la plaque de résine du corps de préparation de masque de dépôt à une lumière laser depuis le côté du masque métallique pour former des ouvertures de masque de résine correspondant à un motif devant être formé sur la plaque de résine par dépôt ; et retirer la feuille de protection du masque de résine, les ouvertures du masque de résine correspondant au motif devant être formé par dépôt.
(JA) 樹脂マスクを得るための樹脂板の一方の面上に金属マスクが設けられ、当該樹脂板の他方の面上にJIS Z-0237:2009で準拠される剥離強度が0.0004N/10mm以上0.2N/10mm未満の保護シートが設けられた蒸着マスク準備体を準備し、蒸着マスク準備体に対し、金属マスク側から樹脂板にレーザー光を照射し、当該樹脂板に蒸着作製するパターンに対応した樹脂マスク開口部を形成し、蒸着作製するパターンに対応した樹脂マスク開口部が形成された樹脂マスクから保護シートを剥離する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)