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1. (WO2017006625) 保護膜形成用組成物、保護膜の製造方法、および、積層体

Pub. No.:    WO/2017/006625    International Application No.:    PCT/JP2016/064553
Publication Date: Fri Jan 13 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Wed May 18 01:59:59 CEST 2016
IPC: C09D 201/00
B32B 27/30
C08L 25/18
C08L 33/04
C09D 7/12
H01L 21/312
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: KOJIMA Masafumi
小島 雅史
YONEKUTA Yasunori
米久田 康智
SHIBUYA Akinori
渋谷 明規
YAMAMOTO Hisao
山本 長生
TOMIGA Takamitsu
冨賀 敬充
Title: 保護膜形成用組成物、保護膜の製造方法、および、積層体
Abstract:
段差基板への埋め込み性に優れ、平坦な保護膜を形成できる保護膜形成用組成物、保護膜の製造方法および積層体を提供する。保護膜形成用組成物は、段差基板の埋め込みに用いられる保護膜形成用組成物であって、ガラス転移温度が25℃より高い樹脂Aと、ガラス転移温度が25℃以下であり、かつ、重量平均分子量が1500以上の樹脂Bと、溶媒と、を含有する。