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1. (WO2017002860) ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイス
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/002860    国際出願番号:    PCT/JP2016/069276
国際公開日: 05.01.2017 国際出願日: 29.06.2016
IPC:
G03F 7/027 (2006.01), C08F 290/14 (2006.01), C08G 73/10 (2006.01), G03F 7/037 (2006.01), G03F 7/075 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: IWAI Yu; (JP).
SHIBUYA Akinori; (JP).
KOYAMA Ichiro; (JP).
KAWABATA Takeshi; (JP)
代理人: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
優先権情報:
2015-132134 30.06.2015 JP
発明の名称: (EN) NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, CURED FILM PRODUCTION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE NÉGATIVE, FILM DURCI, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DURCI ET DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEURS
(JA) ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイス
要約: front page image
(EN)A negative photosensitive resin composition with a wide exposure latitude, a cured film, a cured film production method and a semiconductor device are provided. This negative photosensitive resin composition includes a polyimide precursor having a repeating unit represented by general formula (1), and a photo-radical polymerization initiator; in general formula (1), A1 and A2 each independently represents an oxygen atom or -NH-, R11 is a divalent linking group having a group represented by -(L-O-)n1- in the main chain, L is an alkylene group or -Si(R)2-, R is a monovalent organic group, n1 is an integer greater than or equal to 2, R12 represents a tetravalent organic group, and R13 and R14 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine photosensible négative présentant une latitude de pose élevée, un film durci, un procédé de production de film durci et un dispositif à semi-conducteurs. Cette composition de résine photosensible négative comprend un précurseur polyimide ayant un motif à répétition représenté par la formule générale (1), et un photo-initiateur de polymérisation radicalaire ; dans la formule générale (1), A1 et A2 représentent chacun indépendamment un atome d'oxygène ou -NH-, R11 est un groupe de liaison divalent ayant un groupe représenté par -(L-O-)n1- dans la chaîne principale, L est un groupe alkylène ou -Si(R)2-, R est un groupe organique monovalent, n1 est un nombre entier supérieur ou égal à 2, R12 représente un groupe organique tétravalent, et R13 et R14 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique monovalent.
(JA)露光ラチチュードが広いネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイスの提供。下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するポリイミド前駆体と、光ラジカル重合開始剤とを含むネガ型感光性樹脂組成物;一般式(1)中、AおよびAは、それぞれ独立に、酸素原子または-NH-を表し、R11は、-(L-O-)n1-で表される基を主鎖に有する2価の連結基であり、Lは、アルキレン基または-Si(R)-であり、Rは1価の有機基であり、n1は2以上の整数であり、R12は4価の有機基を表し、R13およびR14は、それぞれ独立に、水素原子または1価の有機基を表す。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)