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1. (WO2017002859) ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイス
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2017/002859 国際出願番号: PCT/JP2016/069275
国際公開日: 05.01.2017 国際出願日: 29.06.2016
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,C08F 290/14 (2006.01) ,C08G 73/10 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/037 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION[JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者: IWAI Yu; JP
KOYAMA Ichiro; JP
KAWABATA Takeshi; JP
SHIBUYA Akinori; JP
代理人: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
優先権情報:
2015-13210530.06.2015JP
発明の名称: (EN) NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, CURED FILM PRODUCTION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE NÉGATIVE, FILM DURCI, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DURCI, ET DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEUR
(JA) ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイス
要約: front page image
(EN) A negative photosensitive resin composition with a wide exposure latitude, a cured film, a cured film production method and a semiconductor device are provided. This negative photosensitive resin composition includes: a polyimide precursor; a radical polymerization initiator; at least one type of first polymerization inhibitor selected from compounds having an aromatic hydroxyl group; and at least one type of second polymerization inhibitor selected from a nitroso compound, an N-oxide compound, a quinone compound, an N-oxyl compound and a phenothiazine compound.
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible négative avec une grande latitude d'exposition, un film durci, un procédé de production de film durci, et un dispositif à semi-conducteur. Cette composition de résine photosensible négative comprend : un précurseur de polyimide; un initiateur de polymérisation radicalaire; au moins un type de premier inhibiteur de polymérisation choisi parmi des composés ayant un groupe hydroxyle aromatique; et au moins un type de second inhibiteur de polymérisation choisi parmi un composé nitroso, un composé N-oxyde, un composé de quinone, un composé N-oxyle et un composé de phénothiazine.
(JA) 露光ラチチュードが広いネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイスの提供。ポリイミド前駆体;ラジカル重合開始剤;芳香族性水酸基を有する化合物から選択される少なくとも1種の第1の重合禁止剤;並びに、ニトロソ化合物、N-オキシド化合物、キノン化合物、N-オキシル化合物およびフェノチアジン化合物から選択される少なくとも1種の第2の重合禁止剤を含む、ネガ型感光性樹脂組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)