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1. (WO2017002808) ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/002808 国際出願番号: PCT/JP2016/069145
国際公開日: 05.01.2017 国際出願日: 28.06.2016
IPC:
C03C 3/091 (2006.01) ,C03B 5/027 (2006.01) ,C03C 3/085 (2006.01) ,C03C 3/087 (2006.01)
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
3
ガラスの組成物
04
シリカを含むもの
076
重量比で40%から90%シリカを有するもの
089
ほう素を含むもの
091
アルミニウムを含むもの
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
B
ガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形;または、ガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形における補助プロセス
5
溶融窯における溶融;ガラス製造専用窯
02
電気窯におけるもの
027
ガラスバスに浸漬された電極間に電流を通すことによるもの,すなわち直接抵抗加熱によるもの
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
3
ガラスの組成物
04
シリカを含むもの
076
重量比で40%から90%シリカを有するもの
083
酸化アルミニウムまたは鉄化合物を含むもの
085
二価金属の酸化物を含むもの
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
3
ガラスの組成物
04
シリカを含むもの
076
重量比で40%から90%シリカを有するもの
083
酸化アルミニウムまたは鉄化合物を含むもの
085
二価金属の酸化物を含むもの
087
酸化カルシウムを含むもの,例.通常の板ガラスまたは容器ガラス
出願人:
AvanStrate株式会社 AVANSTRATE INC. [JP/JP]; 東京都品川区西五反田1丁目11番1号 1-11-1, Nishi-Gotanda, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031, JP
発明者:
市川 学 ICHIKAWA Manabu; JP
代理人:
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
優先権情報:
2015-13178030.06.2015JP
発明の名称: (EN) GLASS SUBSTRATE FOR DISPLAY AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) SUBSTRAT DE VERRE POUR ÉCRAN ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
要約:
(EN) Provided are: a glass substrate that achieves a high strain point while having a low devitrification temperature; and a method for producing said glass substrate. This glass substrate for a display is made of a glass comprising SiO2 and Al2O3, comprising 0% or more to less than 3% B2O3 and from 5 to 14% BaO as expressed in mass%, and substantially comprising no Sb2O3, wherein the devitrification temperature is 1235°C or lower and the strain point is 720°C or higher. Alternatively, this glass substrate for a display is made of a glass comprising SiO2 and Al2O3, comprising 0% or more to less than 3% B2O3, 1.8% or more MgO, and from 5 to 14% BaO as expressed in mass%, and substantially comprising no Sb2O3, wherein (SiO2+MgO+CaO)-(Al2O3+SrO+BaO) is less than 42%, the devitrification temperature is 1260°C or lower, and the strain point is 720°C or higher. This method for producing said glass substrate for a display comprises: a melting step for melting, by using at least direct ohmic heating, a glass material prepared to have a predetermined composition; a molding step for molding, into a flat glass sheet, the molten glass that has been melted in the melting step; and an annealing step for annealing the flat glass sheet, wherein a condition for cooling the flat glass sheet is controlled such that the heat shrinkage rate of the flat glass sheet is reduced.
(FR) L'invention concerne : un substrat de verre qui permet d'obtenir une température inférieure de recuit élevée tout en ayant une faible température de dévitrification ; et un procédé de fabrication dudit substrat de verre. Ce substrat de verre pour écran est constitué d'un verre comprenant du SiO2 et Al2O3, comprenant de 0 % ou plus à moins de 3 % de B2O3 et de 5 à 14 % de BaO exprimé en % en masse, et ne comprenant sensiblement pas de Sb2O3, la température de dévitrification étant de 1235 °C ou moins et la température inférieure de recuit étant de 720 °C ou plus. Dans un autre mode de réalisation, ce substrat de verre pour écran est constitué d'un verre comprenant du SiO2 et Al2O3, comprenant de 0 % ou plus à moins de 3 % de B2O3, 1,8 % ou plus de MgO, et de 5 à 14 % de BaO exprimé en % en masse, et ne comprenant sensiblement pas de Sb2O3, (SiO2+MgO+CaO)-(Al2O3+SrO+BaO) étant inférieur à 42 %, la température de dévitrification étant inférieure ou égale à 1260 °C, et la température inférieure de recuit étant de 720 °C ou plus. Ce procédé de production dudit substrat de verre pour écran comprend : une étape de fusion pour faire fondre, en utilisant au moins un chauffage ohmique direct, un matériau de verre préparé pour présenter une composition prédéterminée ; une étape de moulage destinée à mouler, dans une feuille de verre plate, le verre fondu qui a été fondu dans l'étape de fusion ; et une étape de recuit pour le recuit de la feuille de verre plate, une condition pour le refroidissement de la feuille de verre plate étant contrôlée de telle sorte que le taux de retrait thermique de la feuille de verre plate soit réduit.
(JA) 失透温度を低く抑えつつ高歪点を満足するガラス基板およびこの製造方法を提供する。 ディスプレイ用ガラス基板。SiO2、Al2O3を含有し、質量%表示で、B2O3が0%以上、3%未満であり、BaOが5~14%であり、Sb2O3を実質的に含有せず、失透温度が1235℃以下であり、かつ歪点が720℃以上である、ガラスからなる。あるいは、SiO2、Al2O3を含有し、質量%表示で、B2O3が0%以上、3%未満であり、MgOが1.8%以上であり、BaOが5~14%であり、Sb2O3を実質的に含有せず、(SiO2+MgO+CaO)-(Al2O3+SrO+BaO)が42%未満であり、失透温度が1260℃以下であり、かつ歪点が720℃以上である、ガラスからなる。ディスプレイ用ガラス基板の製造方法。所定の組成に調合したガラス原料を少なくとも直接通電加熱を用いて熔解する熔解工程、前記熔解工程にて熔解した熔融ガラスを平板状ガラスに成形する成形工程、前記平板状ガラスを徐冷する工程であって、前記平板状ガラスの熱収縮率を低減するように前記平板状ガラスの冷却条件を制御する徐冷工程を含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)