WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2017002737) パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/002737    国際出願番号:    PCT/JP2016/068912
国際公開日: 05.01.2017 国際出願日: 24.06.2016
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: NIHASHI Wataru; (JP).
TSUCHIHASHI Toru; (JP).
TSUBAKI Hideaki; (JP)
代理人: TAKAMATSU Takeshi; (JP)
優先権情報:
2015-132963 01.07.2015 JP
2016-122975 21.06.2016 JP
発明の名称: (EN) PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
要約: front page image
(EN)The present invention provides: a positive pattern forming method wherein development is carried out using a developer liquid containing an organic solvent with use of a composition that contains (A) a resin which has a repeating unit containing a moiety that produces a polar interaction, and the polarity of which is decreased by the action of an acid or a base that eliminates the polar interaction, or a composition that contains (A') a resin which has a repeating unit containing a polar group and (B) a compound that produces a polar interaction with the polar group of the resin (A'); and a method for manufacturing an electronic device, which comprises this pattern forming method.
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation de motif positif. Un développement est effectué en utilisant un révélateur liquide contenant un solvant organique avec utilisation d'une composition qui contient (A) une résine qui possède une unité de répétition contenant un groupe caractéristique qui produit une interaction polaire et dont la polarité est réduite par l'action d'un acide ou une base qui élimine l'interaction polaire, ou une composition qui contient (A') une résine qui possède une unité de répétition contenant un groupe polaire et (B) un composé qui produit une interaction polaire avec le groupe polaire de la résine (A') ; et un procédé de fabrication d'un dispositif électronique qui comprend ce procédé de formation de motif.
(JA)本発明によれば、(A)極性相互作用を形成する部位を含む繰り返し単位を有し、酸又は塩基の作用により上記極性相互作用が解除されて、極性が低下する樹脂を含有する組成物、又は、(A')極性基を有する繰り返し単位を有する樹脂と、(B)樹脂(A')の極性基と極性相互作用を形成する化合物を含有する組成物を用い、有機溶剤を含む現像液を用いて現像するポジ型のパターン形成方法、及びこのパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法が提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)