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1. (WO2017002545) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/002545 国際出願番号: PCT/JP2016/066801
国際公開日: 05.01.2017 国際出願日: 06.06.2016
IPC:
G03F 7/038 (2006.01) ,C08F 12/24 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
12
ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つが芳香族炭素環によって停止されている化合物の単独重合体または共重合体
02
1個の不飽和脂肪族基を含有する単量体
04
1個の環を含有するもの
14
異種原子または異種原子含有基で置換されたもの
22
酸素
24
フェノールまたはアルコール
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
平野 修史 HIRANO Shuji; JP
代理人:
高松 猛 TAKAMATSU Takeshi; JP
優先権情報:
2015-13208230.06.2015JP
発明の名称: (EN) ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, MASK BLANKS HAVING ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
(FR) COMPOSITION ET FILM DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS, ÉBAUCHES DE MASQUE DOTÉES D'UN FILM SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
要約:
(EN) According to the present invention, provided are: an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound (A) having a reduced dissolution rate in an alkali developing solution due to the action of an acid, a hydrophobic resin (B), and a resin (C) having an aromatic ring; a film using the resin composition; mask blanks; a method for forming a pattern; and a method for manufacturing an electronic device.
(FR) L'invention concerne : une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible aux rayonnements contenant un composé (A) présentant une vitesse de dissolution réduite dans une solution de développement alcaline due à l'action d'un acide, une résine hydrophobe (B), et une résine (C) présentant un cycle aromatique ; un film utilisant de la composition de résine ; des ébauches de masque ; un procédé pour former un motif ; et un procédé de fabrication de dispositif électronique.
(JA) 本発明によれば、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が低下する化合物(A)、疎水性の樹脂(B)、及び芳香環を有する樹脂(C)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いた膜、マスクブランクス、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法が提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)