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1. (WO2017002152) 試料高さ調整方法及び観察システム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/002152    国際出願番号:    PCT/JP2015/068603
国際公開日: 05.01.2017 国際出願日: 29.06.2015
IPC:
H01J 37/20 (2006.01), H01J 37/16 (2006.01), H01J 37/18 (2006.01), H01J 37/22 (2006.01)
出願人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
発明者: NAKABAYASHI Makoto; (JP).
Oominami Yuusuke; (JP).
KAWANISHI Shinsuke; (JP)
代理人: TODA Yuji; (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) SAMPLE HEIGHT ADJUSTMENT METHOD AND OBSERVATION SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ DE RÉGLAGE DE HAUTEUR D'ÉCHANTILLON ET SYSTÈME D'OBSERVATION
(JA) 試料高さ調整方法及び観察システム
要約: front page image
(EN)The present invention relates to a method for adjusting the distance between a separating membrane and a sample in a charged particle beam device having a charged particle optical lens barrel (2), a first sample placement part (419), and a separating membrane (10) for separating from the interior of the charged particle optical lens barrel (2) the space in which a sample (6) is disposed. The adjustment uses an optical device (402) having a second sample placement part (400), and a height adjustment member (403) shaped in such a manner as to be placeable commonly to the first sample placement part and the second placement part. The height adjustment member (403) is used in the optical device (402) to reproduce the positional relationship between the sample (6) and the separating membrane (10). Then, the height of a sample stage (410) equipped with a Z axis drive mechanism of a charged particle microscope device is adjusted so as to position the surface of the sample (6) at the focal point position of the optical device (402). Thereafter, the sample stage (410) equipped with the Z axis drive mechanism is disposed in the charged particle microscope device, and observation is performed. In this manner, the distance between the separating membrane and the sample can be adjusted safely and simply.
(FR)La présente invention concerne un procédé de réglage de la distance entre une membrane de séparation et un échantillon dans un dispositif à faisceau de particules chargées comprenant un barillet de lentille de système optique à particules chargées (2), une première partie de placement d'échantillon (419), et une membrane de séparation (10) pour séparer de l'intérieur du barillet de lentille de système optique à particules chargées (2) l'espace dans lequel un échantillon (6) est disposé. Le réglage utilise un dispositif optique (402) comprenant une seconde partie de placement d'échantillon (400), et un élément de réglage de hauteur (403) formé de manière à pouvoir être placé d'une manière commune sur la première partie de placement d'échantillon et la seconde partie de placement. L'élément de réglage de hauteur (403) est utilisé dans le dispositif optique (402) pour reproduire la relation de position entre l'échantillon (6) et la membrane de séparation (10). Ensuite, la hauteur d'une platine d'échantillon (410) équipée d'un mécanisme d'entraînement d'axe Z d'un dispositif de microscope à particules chargées est réglée de manière à positionner la surface de l'échantillon (6) à la position du foyer du dispositif optique (402). Après cela, la platine d'échantillon (410) équipée du mécanisme d'entraînement d'axe Z est disposée dans le dispositif de microscope à particules chargées, et une observation est effectuée. De cette manière, la distance entre la membrane de séparation et l'échantillon peut être réglée simplement et en toute sécurité.
(JA)本発明は、荷電粒子光学鏡筒(2)と、第1の試料設置部(419)と、試料(6)が配置される空間を前記荷電粒子光学鏡筒(2)の内部から隔離する隔膜(10)とを有する荷電粒子線装置において、隔膜と試料との距離を調整する方法に関する。調整には、第2の試料設置部(400)を有する光学式装置(402)と、前記第1の試料設置部と前記第2の試料設置部に共通して設置することが可能な形状である高さ調整部材(403)とを用いる。光学式装置(402)内で高さ調整部材(403)を用いて、試料(6)と隔膜(10)との位置関係を再現する。そして、光学式装置(402)の焦点位置に試料(6)の表面が位置するように荷電粒子顕微鏡装置のZ軸駆動機構付き試料台(410)の高さを調整する。その後、Z軸駆動機構付き試料台(410)を荷電粒子顕微鏡装置に配置し、観察を行う。これにより、安全にかつ簡便に隔膜と試料との距離を調整することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)