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1. (WO2017002151) 成膜装置及び成膜方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/002151 国際出願番号: PCT/JP2015/004983
国際公開日: 05.01.2017 国際出願日: 30.09.2015
IPC:
C23C 16/455 (2006.01) ,B65D 23/02 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
455
ガスを反応室に導入するため,または反応室のガス流を変えるために使われる方法に特徴があるもの
B 処理操作;運輸
65
運搬;包装;貯蔵;薄板状または線条材料の取扱い
D
物品または材料の保管または輸送用の容器,例.袋,樽,瓶,箱,缶,カートン,クレート,ドラム缶,つぼ,タンク,ホッパー,運送コンテナ;付属品,閉蓋具,またはその取付け;包装要素;包装体
23
他に分類されないびんまたは広口びんの細部
02
ライニングまたは内部コーテング
出願人:
三菱重工メカトロシステムズ株式会社 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES MECHATRONICS SYSTEMS, LTD. [JP/JP]; 兵庫県神戸市兵庫区和田宮通五丁目4番22号 4-22, wadamiya-dori 5-chome, Hyogo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6520863, JP
発明者:
水川 憲二 MIZUKAWA, Kenji; JP
廣谷 喜与士 HIROYA, Kiyoshi; JP
中西 文一 NAKANISHI, Fumikazu; JP
代理人:
大場 充 OBA, Mitsuru; JP
優先権情報:
2015-13050830.06.2015JP
発明の名称: (EN) FILM FORMING DEVICE AND FILM FORMING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置及び成膜方法
要約:
(EN) Provided is a film forming device whereby a time needed to form a barrier film in each container can be shortened, and a time for continuously performing operations of forming the barrier film can be lengthened. A film forming device 100 of the present invention is provided with: a vacuum chamber 10, which houses a resin container P in which a gas barrier film is to be formed, said vacuum chamber being to be brought into a vacuum state when forming the gas barrier film; a gas supply pipe 20, which guides into the container a medium gas G to be used for the purpose of forming the gas barrier film, and which advances and retracts in the axis line direction in a housing region; and a sheath 40 having the housing region for housing at least a part of the gas supply pipe 20. The gas supply pipe 20 is inserted into the resin container P when forming the gas barrier film, and in a stand-by state wherein the gas barrier film is not formed, the gas supply pipe is retracted from the resin container P and is housed in the housing region of the sheath 40, said housing region being maintained in the vacuum state.
(FR) L'invention concerne un dispositif de formation de film qui permet de raccourcir le temps nécessaire pour former un film barrière dans des récipients, et de rallonger le temps servant à effectuer des opérations continues de formation du film barrière. Un dispositif de formation de film 100 selon la présente invention est pourvu : d'une chambre à vide 10, qui loge un récipient en résine P dans lequel un film barrière contre les gaz doit être formé, ladite chambre à vide devant être mise sous vide lors de la formation du film barrière aux gaz ; d'un tuyau d'alimentation en gaz 20, qui conduit dans le récipient un milieu gazeux G qui doit être utilisé pour former le film barrière contre les gaz, et qui avance et se rétracte dans le sens de la ligne d'axe d'une région de logement ; d'une gaine 40 contenant la région de logement afin de loger au moins une partie du tuyau d'alimentation en gaz 20. Le tuyau d'alimentation en gaz 20 est inséré dans le récipient de résine P lors de la formation du film barrière aux gaz et, dans un état d'attente dans lequel le film barrière contre les gaz n'est pas formé, le tuyau d'alimentation en gaz est rétracté du récipient de résine P et logé dans la région de logement de la gaine 40, ladite région de logement étant maintenue dans un état sous vide.
(JA) 容器のそれぞれにバリア膜を形成する時間を短くできるとともに、バリア膜を形成する連続運転の時間を長くできる成膜装置を提供する。 本発明の成膜装置100は、ガスバリア性膜が形成される樹脂容器Pを収容し、ガスバリア性膜の成膜時に真空状態とされる真空チャンバ10と、ガスバリア性膜を成膜するのに用いられる媒質ガスGを前記容器の内部に導き、その軸線方向に沿って前記収容領域を進退移動するガス供給管20と、ガス供給管20の少なくとも一部を収容する収容領域を有するシース40と、を備える。ガス供給管20は、ガスバリア性膜の成膜時に、樹脂容器Pに挿入され、ガスバリア性膜を成膜しない待機時に、樹脂容器Pから退避するとともに、真空に維持されるシース40の収容領域に収容される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)