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1. WO2016203863 - 光学部品及びレーザ加工機

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公開番号 WO/2016/203863
公開日 22.12.2016
国際出願番号 PCT/JP2016/063722
国際出願日 09.05.2016
IPC
G02B 1/115 2015.1
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
1使用物質によって特徴づけられた光学要素;光学要素のための光学的コーティング
10光学要素への塗布または表面処理によって作られた光学的コーティング
11反射防止コーティング
113無機の層材料のみを使用するもの
115複数の層からなるもの
B23K 26/064 2014.1
B処理操作;運輸
23工作機械;他に分類されない金属加工
Kハンダ付またはハンダ離脱;溶接;ハンダ付または溶接によるクラッドまたは被せ金;局部加熱による切断,例.火炎切断:レーザービームによる加工
26レーザービームによる加工,例.溶接,切断または穴あけ
02加工物の位置決めまたは観察,例.照射点に関するもの;レーザービームの軸合せ,照準または焦点合せ
06レーザービームの成形,例.マスクまたは多焦点合せによるもの
064光学素子によるもの,例.レンズ,鏡またはプリズム
B23K 26/382 2014.1
B処理操作;運輸
23工作機械;他に分類されない金属加工
Kハンダ付またはハンダ離脱;溶接;ハンダ付または溶接によるクラッドまたは被せ金;局部加熱による切断,例.火炎切断:レーザービームによる加工
26レーザービームによる加工,例.溶接,切断または穴あけ
36材料の除去
38穴あけまたは切断
382穴あけ
G02B 1/14 2015.1
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
1使用物質によって特徴づけられた光学要素;光学要素のための光学的コーティング
10光学要素への塗布または表面処理によって作られた光学的コーティング
14保護コーティング,例.ハードコーティング
H01S 3/00 2006.1
H電気
01基本的電気素子
S光を増幅または生成するために,放射の誘導放出による光増幅を用いた装置;光領域以外の電磁放射の誘導放出を用いた装置
3レーザ,すなわち赤外線,可視光または紫外線領域での電磁放射の誘導放出を用いた装置
CPC
B23K 26/064
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
26Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
064by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
B23K 26/382
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
26Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
36Removing material
38by boring or cutting
382by boring
G02B 1/115
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
11Anti-reflection coatings
113using inorganic layer materials only
115Multilayers
G02B 1/14
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
14Protective coatings, e.g. hard coatings
H01S 3/00
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
出願人
  • 三菱電機株式会社 MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 中井　秀和 NAKAI, Hidekazu
  • 福永　圭佑 FUKUNAGA, Keisuke
代理人
  • 曾我　道治 SOGA, Michiharu
優先権情報
2015-12371619.06.2015JP
2015-12371719.06.2015JP
2015-12371819.06.2015JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) OPTICAL COMPONENT AND LASER MACHINING APPARATUS
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE ET APPAREIL D'USINAGE PAR LASER
(JA) 光学部品及びレーザ加工機
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要約
(EN) Disclosed is an optical component, wherein a multilayer film is formed at least on one surface of a Ge substrate, the topmost layer of the multilayer film is a diamond-like carbon layer (DLC layer), and at least one layer selected from the group consisting of a ZnS layer and a metal oxide layer is formed between the Ge substrate and the DLC layer. A layer in contact with the Ge substrate is preferably selected from the group consisting of a ZnS layer, Bi2O3 layer, CeO2 layer, Cr2O3 layer, Ta2O5 layer, HfO2 layer, and ZrO2 layer. A layer in contact with the DLC layer is preferably selected from the group consisting of ZnS layer, SiO layer, MgO layer, Y2O3 layer, Bi2O3 layer, CeO2 layer, Cr2O3 layer, Ta2O5 layer, TiO2 layer, HfO2 layer, and ZrO2 layer.
(FR) L'invention concerne un élément optique, dans lequel un film multicouche est formé au moins sur une surface d'un substrat de Ge, la couche la plus supérieure du film multicouche étant une couche de carbone sous forme de diamant (couche DLC), et au moins une couche choisie dans le groupe constitué par une couche de ZnS et une couche d'oxyde métallique est formée entre le substrat de Ge et la couche DLC. Une couche en contact avec le substrat de Ge est de préférence choisie dans le groupe constitué par une couche de ZnS, une couche de Bi2O3, une couche de CeO2, une couche de Cr2O3, une couche de Ta2O5, une couche de HfO2, et une couche de ZrO2. Une couche en contact avec la couche de DLC est de préférence choisie dans le groupe constitué par une couche de ZnS, une couche de SiO, une couche de MgO, une couche de Y2O3, une couche de Bi2O3, une couche de CeO2, une couche de Cr2O3, une couche de Ta2O5, une couche de TiO2, une couche de HfO2, et une couche de ZrO2.
(JA) Ｇｅ基板の少なくとも片面に多層膜が形成された光学部品であって、前記多層膜の最表層はダイヤモンドライクカーボン層（ＤＬＣ層）であり、前記Ｇｅ基板と前記ＤＬＣ層との間に、ＺｎＳ層及び金属酸化物層からなる群から選択される少なくとも１つの層が形成されている光学部品。前記Ｇｅ基板に接する層は、ＺｎＳ層、Ｂｉ2Ｏ3層、ＣｅＯ2層、Ｃｒ2Ｏ3層、Ｔａ2Ｏ5層、ＨｆＯ2層及びＺｒＯ2層からなる群から選択されることが好ましい。前記ＤＬＣ層に接する層は、ＺｎＳ層、ＳｉＯ層、ＭｇＯ層、Ｙ2Ｏ3層、Ｂｉ2Ｏ3層、ＣｅＯ2層、Ｃｒ2Ｏ3層、Ｔａ2Ｏ5層、ＴｉＯ2層、ＨｆＯ2層及びＺｒＯ2層からなる群から選択されることが好ましい。
関連特許文献
CN107710025
JPWO2016203863
国際事務局に記録されている最新の書誌情報
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