(EN) An active matrix substrate (1001), having: a plurality of pixel regions arranged as a matrix in a first direction and a second direction on a substrate (1); a display region (800) provided with a plurality of gate wires G extending in the first direction and a plurality of source wires S extending in the second direction, the display region (800) including a plurality of pixel regions; and a non-display region (900) located around the display region. Each of the pixel regions is provided with a thin-film transistor (101) including an oxide semiconductor layer, and a pixel electrode (15) formed integrally with a drain electrode (9). The gate electrode (3) and the gate wires G are formed from a first transparent electroconductive film. The drain electrode (9) and the pixel electrode (15) are formed from a second transparent electroconductive film, and are further provided with: a plurality of gate signal lines installed in the non-display region (900) and formed from a metal film; and a first connecting part for connecting each of the gate wires G to one of the gate signal lines.
(FR) L'invention concerne un substrat de matrice active (1001), comprenant : une pluralité de régions de pixel agencées sous la forme d'une matrice dans une première direction et une deuxième direction sur un substrat (1) ; une région d'affichage (800) pourvue d'une pluralité de fils de grille G s'étendant dans la première direction et d'une pluralité de fils de source S s'étendant dans la deuxième direction, la région d'affichage (800) comprenant une pluralité de régions de pixel ; et une région de non-affichage (900) située autour de la région d'affichage. Chacune des régions de pixel est pourvue d'un transistor à couches minces (101) comprenant une couche d'oxyde semi-conducteur, et d'une électrode de pixel (15) formée d'un seul tenant avec une électrode de drain (9). Une électrode de grille (3) et les fils de grille G sont formés à partir d'un premier film électroconducteur transparent. L'électrode de drain (9) et l'électrode de pixel (15) sont formées à partir d'un deuxième film électroconducteur transparent, et le substrat de matrice active est en outre pourvu : d'une pluralité de lignes de signal de grille installées dans la région de non-affichage (900) et formées à partir d'un film métallique ; et d'une première partie de connexion pour connecter chacun des fils de grille G à l'une des lignes de signal de grille.
(JA) アクティブマトリクス基板(1001)は、基板(1)上に第1および第2の方向にマトリクス状に配列された複数の画素領域と、第1の方向に延びる複数のゲート配線Gと、第2の方向に延びる複数のソース配線Sとを備え、複数の画素領域を含む表示領域(800)と、表示領域の周辺に位置する非表示領域(900)とを有し、各画素領域は、酸化物半導体層を含む薄膜トランジスタ(101)と、ドレイン電極(9)と一体的に形成された画素電極(15)とを備え、ゲート電極(3)およびゲート配線Gは第1の透明導電膜から形成されており、ドレイン電極(9)および画素電極(15)は第2の透明導電膜から形成されており、非表示領域(900)に設けられ、かつ、金属膜から形成された複数のゲート信号線と、複数のゲート配線Gのそれぞれをゲート信号線のいずれかに接続する第1接続部とをさらに備える。