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1. (WO2016185888) 基板パターン倒壊抑制用処理材及び基板の処理方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/185888    国際出願番号:    PCT/JP2016/063189
国際公開日: 24.11.2016 国際出願日: 27.04.2016
IPC:
H01L 21/304 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
発明者: FUJITA Kenji; (JP).
TAKIMOTO Yoshio; (JP).
CHUNG Kang-go; (JP)
代理人: AMANO Kazunori; (JP)
優先権情報:
2015-100339 15.05.2015 JP
2015-218006 05.11.2015 JP
発明の名称: (EN) PROCESSING MATERIAL FOR SUPPRESSING SUBSTRATE PATTERN COLLAPSE AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE
(FR) MATÉRIAU DE TRAITEMENT DESTINÉ À SUPPRIMER L'ÉCRASEMENT DE MOTIF DE SUBSTRAT, ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板パターン倒壊抑制用処理材及び基板の処理方法
要約: front page image
(EN)The present invention relates to a processing material for suppressing substrate pattern collapse, which contains a polymer and a polar solvent. The present invention also relates to a method for processing a substrate, which comprises a step for applying the processing material for suppressing substrate pattern collapse to a substrate, on which a pattern is formed, and drying the processing material. The above-described polymer is preferably a hydrophilic polymer. It is preferable that the polymer has at least one functional group selected from among a hydroxy group, a carboxy group, an amide group, an amino group, a sulfo group and an aldehyde group. It is also preferable that the polymer is at least one compound selected from among vinyl polymers, polysaccharides, polyesters, polyethers and polyamides.
(FR)La présente invention concerne un matériau de traitement destiné à supprimer l'écrasement de motif de substrat, qui contient un polymère et un solvant polaire. La présente invention concerne également un procédé de traitement de substrat, qui comprend une étape consistant à appliquer le matériau de traitement destiné à supprimer l'écrasement de motif de substrat sur un substrat, sur lequel un motif est formé, et à sécher le matériau de traitement. Le polymère susmentionné est de préférence un polymère hydrophile. Il est préférable que le polymère comprenne au moins un groupe fonctionnel choisi parmi un groupe hydroxy, un groupe carboxy, un groupe amide, un groupe amino, un groupe sulfo et un groupe aldéhyde. Il est également préférable que le polymère soit au moins un composé choisi parmi les polymères vinyliques, les polysaccharides, les polyesters, les polyéthers et les polyamides.
(JA)本発明は、重合体及び極性溶媒を含有する基板パターン倒壊抑制用処理材である。また、本発明は、上記基板パターン倒壊抑制用処理材を、パターンが形成された基板に塗布し、乾燥する工程を含む基板の処理方法である。上記重合体としては、親水性重合体が好ましい。上記重合体は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミド基、アミノ基、スルホ基及びアルデヒド基から選ばれる少なくとも1種の官能基を有することが好ましい。上記重合体は、ビニル系重合体、多糖類、ポリエステル、ポリエーテル及びポリアミドから選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)