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1. (WO2016181753) プレリンス液、プレリンス処理方法、及び、パターン形成方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/181753    国際出願番号:    PCT/JP2016/062047
国際公開日: 17.11.2016 国際出願日: 14.04.2016
G03F 7/16 (2006.01), G03F 1/82 (2012.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: TAKAHASHI Toshiya; (JP).
TOYOSHIMA Yasushi; (JP).
ABE Junya; (JP).
MOCHIZUKI Hidehiro; (JP)
代理人: TAKAMATSU Takeshi; (JP)
2015-098494 13.05.2015 JP
2016-061892 25.03.2016 JP
(JA) プレリンス液、プレリンス処理方法、及び、パターン形成方法
要約: front page image
(EN)Provided is a pre-rinsing liquid which is used in a method for forming a pattern on a substrate by forming, on the substrate, a resist film that is formed from an active light sensitive or radiation sensitive composition and irradiating the resist film with active light or radiation, and which is used for the purpose of performing a pre-rinsing treatment on the substrate before applying the active light sensitive or radiation sensitive composition onto the substrate. This pre-rinsing liquid satisfies the conditions (1) and (2) described below, and enables the formation of a pattern that has excellent sensitivity, cross-sectional shape, resolution and residue defect performance, especially in the formation of an ultra thin pattern (for example, one having a line width of 50 nm or less). Also provided are: a pre-rinsing method using this pre-rinsing liquid; and a pattern forming method. (1) The pre-rinsing liquid contains 80% by mass or more of an organic solvent with respect to the total mass of the pre-rinsing liquid. (2) The above-described organic solvent is composed of one or more organic solvents that are selected from the group consisting of alcohols, cyclic ethers, glycol ethers, glycol ether acetates, hydrocarbons, ketones, lactones, and esters.
(FR)La présente invention concerne un liquide de pré-rinçage qui est utilisé dans un procédé permettant de former un motif sur un substrat par formation, sur le substrat, d'un film de réserve qui est formé à partir d'une composition sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement et par éclairage du film de réserve avec une lumière active ou un rayonnement, et qui est utilisé dans le but de réaliser un traitement de pré-rinçage sur le substrat avant application de la composition sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement sur le substrat. Ce liquide de pré-rinçage satisfait les conditions (1) et (2) décrites ci-dessous et permet la formation d'un motif qui présente une excellente sensibilité, une magnifique forme en coupe transversale, une excellente résolution et d'excellentes performances de défaut de résidu, en particulier dans la formation d'un motif ultra mince (par exemple, un motif ayant une largeur de ligne égale ou inférieure à 50 nm). La présente invention concerne également : un procédé de pré-rinçage utilisant ce liquide de pré-rinçage; et un procédé de formation de motif. (1) Le liquide de pré-rinçage contient une quantité égale ou supérieure à 80 % en masse d'un solvant organique par rapport à la masse totale du liquide de pré-rinçage. (2) Le solvant organique décrit ci-dessus est composé d'un ou de plusieurs solvants organiques qui sont choisis dans le groupe constitué par les alcools, les éthers cycliques, les éthers glycoliques, les acétates d'éther glycolique, les hydrocarbures, les cétones, les lactones et les esters.
(JA)感活性光線性又は感放射線性組成物によりなるレジスト膜を基板上に形成し、前記レジスト膜に活性光線又は放射線を照射することにより基板上にパターンを形成する方法に用いられ、前記感活性光線性又は感放射線性組成物を前記基板の上に塗布する前に、前記基板に対してプレリンス処理を行うためのプレリンス液であって、下記(1)及び(2)の条件を満たす、プレリンス液により、特に、超微細(例えば、線幅50nm以下)のパターンの形成において、感度、パターンの断面形状、解像性、及び、残渣欠陥性能に優れたパターンを形成可能な、プレリンス液、並びに、これを用いたプレリンス処理方法及びパターン形成方法を提供する。 (1) 上記プレリンス液は、上記プレリンス液の総質量に対し、有機溶剤を80質量%以上含む。 (2) 上記有機溶剤が、アルコール類、環状エーテル類、グリコールエーテル類、グリコールエーテルアセテート類、炭化水素類、ケトン類、ラクトン類、及び、エステル類からなる群より選択される1種以上の有機溶剤である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)