WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2016181722) パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/181722    国際出願番号:    PCT/JP2016/060983
国際公開日: 17.11.2016 国際出願日: 04.04.2016
IPC:
G03F 7/038 (2006.01), C08F 220/18 (2006.01), C08F 224/00 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: GOTO Akiyoshi; (JP).
KATO Keita; (JP)
代理人: NAKASHIMA Junko; (JP)
優先権情報:
2015-098850 14.05.2015 JP
発明の名称: (EN) PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, ET COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT
(JA) パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
要約: front page image
(EN)A pattern formation method, having at least (i) a step for forming a film on a substrate using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step for irradiating the film with actinic rays or radiation, and (iii) a step for developing the film irradiated with the actinic rays or radiation using a developing solution containing an organic solvent. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used in the pattern formation method contains a resin P and a compound that generates an acid upon being irradiated with actinic rays or radiation. The resin P has repeating units Q1 represented by a specific general formula (q1) and repeating units Q2 represented by a specific general formula (q2). The amount of repeating units Q2 contained in relation to all repeating units in the resin P is 20 mol% or higher.
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation de motif, comprenant au moins (i) une étape consistant à former un film sur un substrat à l'aide d'une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement, (ii) une étape consistant à irradier le film avec des rayons actiniques ou un rayonnement, et (iii) une étape consistant à développer le film irradié avec les rayons actiniques ou le rayonnement à l'aide d'une solution de développement contenant un solvant organique. La composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement utilisée dans le procédé de formation de motif contient une résine P et un composé qui génère un acide lorsqu'il est irradié avec des rayons actiniques ou un rayonnement. La résine P a des unités de répétition Q1 représentées par une formule générale spécifique (q1) et des unités de répétition Q2 représentées par une formule générale spécifique (q2). La quantité d'unités de répétition Q2 contenue par rapport à l'ensemble des unités de répétition dans la résine P est de 20 % en moles ou plus.
(JA)パターン形成方法は、(i)感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって基板上に膜を形成する工程、(ii)上記膜に活性光線又は放射線を照射する工程、及び、(iii)上記活性光線又は放射線が照射された膜を、有機溶剤を含有する現像液を用いて現像する工程、を少なくとも有し、パターン形成方法で用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、樹脂Pと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有し、上記樹脂Pが、特定の一般式(q1)で表される繰り返し単位Q1、及び、特定の一般式(q2)で表される繰り返し単位Q2を有し、上記樹脂Pの全繰り返し単位に対する、上記繰り返し単位Q2の含有量が、20モル%以上である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)