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1. (WO2016181592) ヘイズの評価方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/181592    国際出願番号:    PCT/JP2016/001315
国際公開日: 17.11.2016 国際出願日: 10.03.2016
IPC:
H01L 21/66 (2006.01), G01B 11/30 (2006.01)
出願人: SHIN-ETSU HANDOTAI CO.,LTD. [JP/JP]; 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
発明者: SAITO, Hisayuki; (JP)
代理人: YOSHIMIYA, Mikio; (JP)
優先権情報:
2015-098286 13.05.2015 JP
発明の名称: (EN) HAZE EVALUATION METHOD
(FR) PROCÉDÉ D'ÉVALUATION DE TROUBLE
(JA) ヘイズの評価方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for evaluating haze of a substrate surface by means of a particle counter device using scattered light. The haze evaluation method is characterized in that, at the time of obtaining the haze value of the substrate surface on the basis of the scattered light intensity of light inputted to the substrate surface, the haze value is calibrated using a standard sample, and a sample coated with standard particles is used as the standard sample. Consequently, the haze evaluation method whereby the haze value of the particle counter device is calibrated using the standard sample for haze, and haze measurement accuracy can be improved is provided.
(FR)La présente invention porte sur un procédé d'évaluation de trouble d'une surface de substrat au moyen d'un dispositif compteur de particules utilisant une lumière diffusée. Le procédé d'évaluation de trouble est caractérisé en ce que, au moment de l'obtention de la valeur de trouble de la surface de substrat sur la base de l'intensité de lumière diffusée de la lumière mise en entrée à la surface de substrat, la valeur de trouble est étalonnée à l'aide d'un échantillon standard, et un échantillon revêtu de particules standard est utilisée en tant qu'échantillon standard. Par conséquent, la présente invention porte sur le procédé d'évaluation de trouble par lequel la valeur de trouble du dispositif compteur de particules est étalonnée à l'aide de l'échantillon standard pour trouble, et la précision de mesure de trouble peut être améliorée.
(JA)本発明は、散乱光を用いたパーティクルカウンター装置により基板表面のヘイズを評価する方法であって、前記基板表面に入射した光の散乱光強度から前記基板表面のヘイズ値を求める際に、標準サンプルを用いてヘイズ値のキャリブレーションを行い、前記標準サンプルとして標準粒子を塗布したサンプルを用いることを特徴とするヘイズの評価方法である。これにより、ヘイズ用の標準サンプルを用いてパーティクルカウンター装置のヘイズ値のキャリブレーションを行い、ヘイズの測定精度を向上させることができるヘイズの評価方法が提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)