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1. (WO2016175151) 銅合金スパッタリングターゲット
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/175151    国際出願番号:    PCT/JP2016/062800
国際公開日: 03.11.2016 国際出願日: 22.04.2016
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), C22C 9/00 (2006.01), C22C 9/01 (2006.01), C22C 9/05 (2006.01), C22C 9/06 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117 (JP)
発明者: KOMIYAMA Shozo; (JP).
MORI Satoru; (JP)
代理人: SHIGA Masatake; (JP)
優先権情報:
2015-091661 28.04.2015 JP
発明の名称: (EN) COPPER ALLOY SPUTTERING TARGET
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION EN ALLIAGE DE CUIVRE
(JA) 銅合金スパッタリングターゲット
要約: front page image
(EN)A copper alloy sputtering target characterized in: having a composition containing 5 mass% to 15 mass% of Ni or total of Ni and Al (comprising at least 0.5 mass% of Ni) and containing 0.1 mass% to 5.0 mass% of Mn and 0.5 mass% to 7.0 mass% of Fe, the balance being Cu and unavoidable impurities; and in the maximum particle size of non-metal inclusions being 10 µm or less.
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation en alliage de cuivre caractérisée en ce qu'elle présente une composition contenant 5 % en masse à 15 % en masse de Ni ou d'un total de Ni et de Al (comprenant au moins 0,5 % en masse de Ni) et contenant 0,1 % en masse à 5,0 % en masse de Mn et 0,5 % en masse à 7,0 % en masse de Fe, le reste étant du Cu et des impuretés inévitables; et en ce que la granulométrie maximale des inclusions non métalliques est de 10 µm ou moins.
(JA)Ni、又はNi及びAlを合計で5mass%以上15mass%以下(但し、Niを0.5mass%以上含む)含有するとともに、Mnを0.1mass%以上5.0mass%以下、Feを0.5mass%以上7.0mass%以下、含有し、残部がCuと不可避不純物とからなる組成を有し、非金属介在物の最大粒子径が10μm以下とされていることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)