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1. (WO2016171083) 導電パターン形成部材の製造方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/171083    国際出願番号:    PCT/JP2016/062150
国際公開日: 27.10.2016 国際出願日: 15.04.2016
G03F 7/004 (2006.01), C08F 220/06 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), G06F 3/041 (2006.01)
出願人: TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666 (JP)
発明者: MIZUGUCHI, Tsukuru; (JP).
KAWANO, Tomotaka; (JP)
2015-086437 21.04.2015 JP
(JA) 導電パターン形成部材の製造方法
要約: front page image
(EN)A method is provided for manufacturing a conductive pattern forming member which, while suppressing the occurrence of residues in the dissolution and removal of unexposed portions, has excellent resistance to ion migration between a conductive pattern formed on a substrate and a photosensitive resin layer. This method for manufacturing a conductive pattern forming member involves: a coating step for obtaining a coated film C by coating a compound C, which contains conductive particles and a resin (c) having a double bond and a carboxyl group, onto the surface of a transparent electrode layer B, and a layer A comprising a resin (a) having a carboxyl group, formed on the substrate; a drying step for drying the coated film C to obtain a dry film C; an exposure step for exposing the dry film C to obtain an exposed film C; a developing step for developing the exposed film C to obtain a pattern C; and a curing step for curing the pattern C to obtain a conductive pattern C, wherein the ratio of the conductive particles that have a 0.3-2.0μm particle diameter is greater than or equal to 80%.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un élément de formation de motif conducteur qui, tout en supprimant l'apparition de résidus lors de la dissolution et l'élimination de parties non exposées, présente une excellente résistance à la migration des ions entre un motif conducteur formé sur un substrat et une couche de résine photosensible. Le procédé de fabrication d'un élément de formation de motif conducteur comprend : une étape de revêtement pour obtenir un film revêtu C via le revêtement d'un composé C, contenant des particules conductrices et une résine (c) ayant une double liaison et un groupe carboxyle, sur la surface d'une couche d'électrode transparente B, et une couche A comprenant une résine (a) ayant un groupe carboxyle, formée sur le substrat ; une étape de séchage pour sécher le film revêtu C et obtenir ainsi un film sec C ; une étape d'exposition pour exposer le film sec C et obtenir ainsi un film exposé C ; une étape de développement pour développer le film exposé C et obtenir ainsi un motif C ; et une étape de durcissement pour faire durcir le motif C et obtenir ainsi un motif conducteur C, le taux de particules conductrices d’un diamètre de particule de 0,3 à 2,0 μm étant égal ou supérieur à 80 %.
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)