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1. (WO2016170942) 化学機械研磨用処理組成物、化学機械研磨方法および洗浄方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/170942    国際出願番号:    PCT/JP2016/060449
国際公開日: 27.10.2016 国際出願日: 30.03.2016
IPC:
H01L 21/304 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), C09K 3/14 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
発明者: MITSUMOTO, Kiyotaka; (JP).
KAWAMOTO, Tatsuyoshi; (JP).
YAMANAKA, Tatsuya; (JP).
ARAKAWA, Megumi; (JP).
KUNITANI, Eiichirou; (JP).
IIDA, Masashi; (JP)
代理人: OFUCHI, Michie; (JP)
優先権情報:
2015-087695 22.04.2015 JP
2015-087696 22.04.2015 JP
2015-087697 22.04.2015 JP
発明の名称: (EN) TREATMENT COMPOSITION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD, AND CLEANING METHOD
(FR) COMPOSITION DE TRAITEMENT POUR LE POLISSAGE MÉCANO-CHIMIQUE, PROCÉDÉ DE POLISSAGE MÉCANO-CHIMIQUE ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE
(JA) 化学機械研磨用処理組成物、化学機械研磨方法および洗浄方法
要約: front page image
(EN)A treatment composition for chemical mechanical polishing which is for treating a work in which a metal-containing wiring layer has been disposed, the treatment composition comprising (A) a nitrogenous compound, (B) at least one compound selected from the group consisting of surfactants and poly(acrylic acid), and (D) a pH regulator. In an examination for electrode charge transfer resistance by an alternating-current impedance measurement using the metal as an electrode, the sum of the electrode charge transfer resistances (RA+RB) measured in an aqueous solution of (A) and (D) and an aqueous solution of (B) and (D) and the electrode charge transfer resistance (RC) measured in an aqueous solution of (A), (B), and (D) satisfy the relationship RC/(RA+RB)>1.
(FR)L’invention concerne une composition de traitement pour le polissage mécano-chimique, destinée à traiter une pièce dans laquelle une couche de câblage contenant du métal a été disposée, la composition de traitement comprenant (A) un composé azoté, (B) au moins un composé choisi dans le groupe constitué des tensioactifs et du poly(acide acrylique), et (D) un régulateur de pH. Dans un examen concernant la résistance de transfert de charge d’électrode par une mesure d’impédance à courant alternatif utilisant le métal comme électrode, la somme des résistances de transfert de charge d’électrode (RA + RB) mesurée dans une solution aqueuse de (A) et (D) et dans une solution aqueuse de (B) et (D) et la résistance de transfert de charge d’électrode (RC) mesurée dans une solution aqueuse de (A), (B) et (D) satisfont à la relation RC/(RA + RB) > 1.
(JA)金属を含む配線層が設けられた被処理体を処理するための化学機械研磨用処理組成物であって、(A)窒素含有化合物と、(B)界面活性剤およびポリアクリル酸よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物と、(D)pH調整剤と、を含有し、金属を電極に用いた交流インピーダンス測定で得られる電極電荷移動抵抗値において、(A)または(B)と、(D)とを含む水溶液中の電極電荷移動抵抗値の和RA+RBと、(A)、(B)および(D)とを含む水溶液中の電極電荷移動抵抗値RCの関係が、RC/(RA+RB)>1となる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)