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1. (WO2016167224) 吸着装置、真空処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/167224    国際出願番号:    PCT/JP2016/061719
国際公開日: 20.10.2016 国際出願日: 11.04.2016
IPC:
H01L 21/683 (2006.01), B65G 49/00 (2006.01), H02N 13/00 (2006.01)
出願人: ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
発明者: KAWAKUBO Daisuke; (JP).
MAEHIRA Ken; (JP).
FUWA Kou; (JP).
SUZUKI Takayuki; (JP)
代理人: ISHIJIMA, Shigeo; (JP)
優先権情報:
2015-083775 15.04.2015 JP
発明の名称: (EN) VACUUM-SUCTION DEVICE AND VACUUM PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ASPIRATION PAR VIDE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT SOUS VIDE
(JA) 吸着装置、真空処理装置
要約: front page image
(EN)[Problem] To provide a vacuum-suction device that experiences no decrease in vacuum-suction force. [Solution] The power-receiving terminal 24 of a vacuum-suction device 19a is disposed inside a power-receiving-side recess 23 and configured so as to be coverable with a lid 25a. When substrates 51 to 53 are to be vacuum-suctioned, the vacuum-suction device 19a is placed on a power supply stand 18a, a power-supply terminal 64 is brought into contact with the power-receiving terminal 24, and the equivalent capacitor between the substrates 51 to 53 and a vacuum-suction electrode 22 is charged. When the vacuum-suction device 19a is moved, the power-receiving-side recess 23 is covered with the lid 25a, and residual gas in a vacuum tank is prevented from contacting the power-receiving terminal 24, while the substrates 51 to 53 are being vacuum-suctioned at the residual charge of the equivalent capacitor. In this arrangement, there is no corrosion of the power-receiving terminal 24, no forming of a thin film, and no discharging of the residual charge of the equivalent capacitor.
(FR)L'invention aborde le problème de la réalisation d'un dispositif d'aspiration par vide qui ne subit aucune diminution d'une force d'aspiration par vide. La solution selon l'invention est caractérisée en ce que la borne de réception d'énergie (24) d'un dispositif d'aspiration par vide (19a) est disposée à l'intérieur d'une cavité du côté de la réception d'énergie (23) et configurée de manière à pouvoir être couverte par un couvercle (25a). Lorsque des substrats 51 à 53 doivent être aspirés par vide, le dispositif d'aspiration par vide (19a) est placé sur un support d'alimentation électrique (18a), une borne d'alimentation électrique (64) est mise en contact avec la borne de réception d'énergie (24) et la capacité équivalente entre les substrats 51 à 53 et une électrode d'aspiration par vide (22) est chargée. Lorsque le dispositif d'aspiration par vide (19a) est déplacé, la cavité du côté de la réception d'énergie (23) est recouverte par le couvercle (25a) et le gaz résiduel dans un réservoir sous vide est empêché d'entrer en contact avec la borne de réception d'énergie (24) pendant que les substrats 51 à 53 sont en train d'être aspirés par vide à la charge résiduelle de la capacité équivalente. Avec cet arrangement, il n'y a pas de corrosion de la borne de réception d'énergie (24), pas de formation d'un film mince et aucune décharge de la charge résiduelle de la capacité équivalente.
(JA)【課題】吸着力が弱くならない吸着装置を提供する。 【解決手段】吸着装置19aの受電端子24を、受電側凹部23内に配置し、蓋部25aによって蓋ができるようにする。基板51~53を吸着する際には、吸着装置19aを給電台18a上に載置し、給電端子64を受電端子24に接触させ、基板51~53と吸着電極22との間の等価容量を充電する。吸着装置19aを移動させる際には、等価容量の残留電荷で基板51~53を吸着しながら、蓋部25aによって、受電側凹部23を蓋し、受電端子24に真空槽中の残留ガスが接触しないようにする。受電端子24が腐食したり、薄膜が形成されたりすることが無くなり、等価容量の残留電荷が放出されないようになる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)