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1. (WO2016163456) リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/163456    国際出願番号:    PCT/JP2016/061397
国際公開日: 13.10.2016 国際出願日: 07.04.2016
IPC:
G03F 7/11 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324 (JP)
発明者: OKADA, Kana; (JP).
MAKINOSHIMA, Takashi; (JP).
ECHIGO, Masatoshi; (JP).
HIGASHIHARA, Go; (JP).
OKOSHI, Atsushi; (JP)
代理人: INABA, Yoshiyuki; (JP)
優先権情報:
2015-078564 07.04.2015 JP
発明の名称: (EN) MATERIAL FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND PATTERN FORMATION METHOD
(FR) MATÉRIAU DE FORMATION DE FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, COMPOSITION POUR LA FORMATION D'UN FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE, FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法
要約: front page image
(EN)A material for forming an underlayer film for lithography is provided which uses a compound represented by formula (0)(in formula (0): each X independently represents oxygen or sulfur, or the absence of a crosslink; R1 represents a C1-30 2n-valent group, or a single bond; each R0 independently represents a C1-30 straight-chain, branched, or cyclic alkyl group, a C6-30 aryl group, a C2-30 straight-chain, branched, or cyclic alkenyl group, a thiol group, a halogen group, a nitro group, an amino group, a carboxylic acid group, or a hydroxyl group; the alkyl group, the alkenyl group, and the aryl group may include a cyanate group, a thiol group, a halogen group, a nitro group, an amino group, a carboxylic acid group, a hydroxyl group, an ether bond, a ketone bond, or an ester bond; each m1 independently represents an integer in the range of 0-4, with at least one m1 being an integer in the range of 1-4; each m2 independently represents an integer in the range of 0-3; n represents an integer in the range of 1-4; and each p independently represents 0 or 1).
(FR)L'invention concerne un matériau permettant de former un film de sous-couche pour lithographie, lequel utilise un composé représenté par la formule (0) (dans la formule (0), chaque X représente indépendamment un atome d'oxygène ou de soufre, ou l'absence d'une réticulation ; R1 représente un groupe de valence 2n en C1 à C30, ou une liaison simple ; chaque R0 représente indépendamment un groupe alkyle à chaîne droite, ramifiée, ou cyclique en C1 à C30, un groupe aryle en C6 à C30, un groupe alcényle à chaîne droite, ramifiée, ou cyclique en C2 à C30, un groupe thiol, un groupe halogène, un groupe nitro, un groupe amino, un groupe acide carboxylique ou un groupe hydroxyle ; le groupe alkyle, le groupe alcényle et le groupe aryle peuvent comprendre un groupe cyanate, un groupe thiol, un groupe halogène, un groupe nitro, un groupe amino, un groupe acide carboxylique, un groupe hydroxyle, une liaison éther, une liaison cétone ou une liaison ester ; chaque m1 représentant indépendamment un nombre entier situé dans la plage allant de 0 à 4, au moins un m1 étant un nombre entier situé dans la plage allant de 1 à 4 ; chaque m2 représente indépendamment un nombre entier situé dans la plage allant de 0 à 3 ; n représente un nombre entier situé dans la plage allant de 1 à 4 ; et chaque p représente indépendamment 0 ou 1).
(JA) 下記式(0)で表される化合物を用いたリソグラフィー用下層膜形成用材料。 (式(0)中、Xは各々独立して、酸素原子若しくは硫黄原子又は無架橋であることを表し、Rは炭素数1~30の2n価の基又は単結合であり、Rは、各々独立して、炭素数1~30の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数6~30のアリール基、炭素数2~30の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルケニル基、チオール基、ハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基又は水酸基であり、前記アルキル基、前記アルケニル基及び前記アリール基は、シアナト基、チオール基、ハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、水酸基、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよい。mは、各々独立して0~4の整数であり、ここで、少なくとも一つのmは1~4の整数であり、mは、各々独立して0~3の整数であり、nは1~4の整数、pは各々独立して、0又は1である。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)