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1. (WO2016159295) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/159295    国際出願番号:    PCT/JP2016/060787
国際公開日: 06.10.2016 国際出願日: 31.03.2016
IPC:
G03F 9/00 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290 (JP)
発明者: NAITO, Kazuo; (JP).
AOKI, Yasuo; (JP).
NAGASHIMA, Masayuki; (JP)
代理人: TATEISHI, Atsuji; (JP)
優先権情報:
2015-071007 31.03.2015 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE DEVICE, METHOD FOR PRODUCING FLAT PANEL DISPLAY, METHOD FOR PRODUCING DEVICE, AND EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉCRAN PLAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(JA) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
要約: front page image
(EN) A liquid crystal exposure device (10) irradiates a substrate (P) with light (IL) from an illumination system (20) via a projection optical system (40), and performs scanning exposure by driving the illumination system (20) and projection optical system (40) in a scanning direction with respect to the substrate (P), forming a predetermined pattern on the substrate (P), is equipped with an acquisition unit that acquires information pertaining to the position for driving the illumination system (20) and projection optical system (40) in the scanning direction, and a control system that controls the projection optical system (40) so as to maintain, within a predetermined range, the variation in the positions of the illumination system (20) and projection optical system (40) on the basis of information, during scanning exposure.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'exposition à cristaux liquides (10) qui expose un substrat (P) à de la lumière (IL) provenant d'un système d'éclairage (20) par l'intermédiaire d'un système optique de projection (40), et effectue une exposition de balayage en entraînant le système d'éclairage (20) et le système optique de projection (40) dans une direction de balayage par rapport au substrat (P), ce qui forme un motif prédéterminé sur le substrat (P), est équipé d'une unité d'acquisition qui acquiert des informations se rapportant à la position pour entraîner le système d'éclairage (20) et le système optique de projection (40) dans la direction de balayage, et un système de commande qui commande le système optique de projection (40) de manière à maintenir, dans une plage prédéterminée, la variation des positions du système d'éclairage (20) et du système optique de projection (40) sur la base d'informations, pendant une exposition de balayage.
(JA) 投影光学系(40)を介して基板(P)に照明系(20)からの光(IL)を射出し、基板(P)に対して照明系(20)及び投影光学系(40)を走査方向に相対駆動して走査露光を行い、所定パターンを基板(P)上に形成する液晶露光装置(10)は、照明系(20)及び投影光学系(40)を走査方向へ駆動するための位置に関する情報を取得する取得部と、走査露光において、情報に基づいて照明系(20)及び投影光学系(40)の位置関係の変化が所定範囲内に収まるように投影光学系(40)を制御する制御系と、を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)