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1. (WO2016159153) 細胞培養基材、その製造方法、およびそれを用いた細胞培養方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/159153    国際出願番号:    PCT/JP2016/060513
国際公開日: 06.10.2016 国際出願日: 30.03.2016
IPC:
C12M 3/00 (2006.01), C08F 297/00 (2006.01), C12M 1/00 (2006.01), C12M 3/04 (2006.01)
出願人: TOSOH CORPORATION [JP/JP]; 4560, Kaisei-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7468501 (JP)
発明者: YAMADA Satoru; (JP).
IMATOMI Shinya; (JP).
KONDOU Satoru; (JP).
MAEJIMA Yukie; (JP)
優先権情報:
2015-072908 31.03.2015 JP
発明の名称: (EN) BASE MEMBER FOR CELL CULTURING USE, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND CELL CULTURING METHOD USING SAME
(FR) ÉLÉMENT DE BASE POUR L'UTILISATION EN CULTURE CELLULAIRE, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET PROCÉDÉ DE CULTURE CELLULAIRE L'UTILISANT
(JA) 細胞培養基材、その製造方法、およびそれを用いた細胞培養方法
要約: front page image
(EN)When the above-mentioned temperature-responsive polymer is used in a base member for cell culturing use, it is needed to lower the temperature of the base member for cell culturing use to a temperature equal to or lower than the critical solution of the polymer. In this case, however, the temperature of cells is also lowered simultaneously. In addition, since cells detached from the base member have a sheet-like form, it is needed to disperse the cells by pipetting or the like while keeping the cells at a low temperature, for the processing of the cells. As a result, the time of cooling of the cells is prolonged. The lowering of the temperature of the cells may induce the reduction in activity of the cells, and therefore it is needed to shorten the time of cooling of the cells. [Solution] The problem can be solved by providing: a base member for cell culturing use, which has a surface coated with a block copolymer, wherein the block copolymer contains a temperature-responsive polymer block (A) that has a lower critical solution temperature (LCST) against water of 0 to 50ºC and a hydrophilic polymer block (B) that does not have a LCST ranging in the range from 0 to 50ºC and has an HLB value (a Griffin method) of 9 to 20; and a base member for cell culturing use, which has a surface coated with a block copolymer, wherein the block copolymer contains a temperature-responsive polymer block (A) that has a lower critical solution temperature (LCST) against water of 0 to 50ºC and a block (B) that meets such a requirement (i) that the block (B) does not have an LCST in the range from 0 to 50ºC, such a requirement (ii) that the block (B) comprises a hydrophilic polymer of a monomer having at least one hydrophilic group selected from a carboxylic acid group, a carboxylic acid ester group, a carboxylic acid metal salt, a sulfonic acid group, a sulfonic acid ester group, a sulfonic acid metal salt, a hydroxy group, an alkoxy group, a phenoxy group, an amide group, a carbamoyl group, a sulfonamide group, a sulfamoyl group, a carbamate group, a phosphoric acid group, a metal salt of a phosphoric acid group, an oxyphosphoric acid group, a metal salt of an oxyphosphoric acid group, a phosphobetaine group, a sulfobetaine group, a carbobetaine group, a polyethylene glycol group and a pyrrolidone group and such a requirement (iii) the block (B) comprises the polymer mentioned in (ii) wherein the polymer contains at least one monomer unit selected from a monomer unit capable of forming an aromatic vinyl compound, a monomer unit capable of forming a (meth)acrylamide compound, a monomer unit capable of forming a fumaric acid diester compound, a monomer unit capable of forming vinyl chloride, a monomer unit capable of forming vinyl acetate, a monomer unit capable of forming (meth)acrylonitrile, a monomer unit capable of forming N-vinylimidazole and a monomer unit capable of forming N-vinylcarbazole.
(FR)Lorsque le polymère sensible à la température susmentionné est utilisé dans un élément de base pour une utilisation en culture cellulaire, il faut abaisser la température de l'élément de base pour l'utilisation en culture cellulaire à une température égale ou inférieure à la température de solution critique du polymère. Dans ce cas, cependant, la température des cellules est également abaissée simultanément. En outre, étant donné que des cellules détachées de l'élément de base ont une forme analogue à une feuille, il faut disperser les cellules par pipetage ou analogue tout en maintenant les cellules à une température basse, pour le traitement des cellules. Par conséquent, le temps de refroidissement des cellules est prolongé. L'abaissement de la température des cellules peut induire la réduction de l'activité des cellules et, par conséquent, il faut raccourcir le temps de refroidissement des cellules. Selon l'invention, le problème peut être résolu en ce que : un élément de base pour une utilisation en culture cellulaire, dont une surface est revêtue par un copolymère séquencé, le copolymère séquencé contenant un bloc polymère sensible à la température (A), qui présente une température inférieure de solution critique (LCST) par rapport à l'eau de 0 à 50°C, et un bloc polymère hydrophile (B) dont la LCST ne se situe pas dans la plage de 0 à 50°C et qui présente une valeur BHL (procédé de Griffin) de 9 à 20 ; et un élément de base pour une utilisation en culture cellulaire, dont la surface est revêtue par un copolymère séquencé, le copolymère séquencé contenant un bloc polymère sensible à la température (A) qui présente une température inférieure de solution critique (LCST) par rapport à l'eau de 0 à 50°C et un bloc (B) qui répond à une exigence (i) selon laquelle le bloc (B) ne présente pas une LCST dans la plage de 0 à 50°C, une exigence (ii) selon laquelle le bloc (B) comprend un polymère hydrophile d'un monomère présentant au moins un groupe hydrophile choisi parmi un groupe acide carboxylique, un groupe ester d'acide carboxylique, un sel métallique d'un acide carboxylique, un groupe acide sulfonique, un groupe ester d'acide sulfonique, un sel métallique d'un acide sulfonique, un groupe hydroxy, un groupe alcoxy, un groupe phénoxy, un groupe amide, un groupe carbamoyle, un groupe sulfonamide, un groupe sulfamoyle, un groupe carbamate, un groupe acide phosphorique, un groupe de sel métallique d'un acide phosphorique, un groupe acide oxyphosphorique, un groupe de sel métallique d'un acide oxyphosphorique, un groupe phosphobétaïne, un groupe sulfobétaïne, un groupe carbobétaïne, un groupe polyéthylèneglycol et un groupe pyrrolidone et une exigence (iii) selon laquelle le bloc (B) comprend le polymère mentionné dans (ii), le polymère contenant au moins un motif monomère choisi parmi un motif monomère pouvant former un composé aromatique de vinyle, un motif monomère pouvant former un composé (méth)acrylamide, un motif monomère pouvant former un composé diester de l'acide fumarique, un motif monomère pouvant former du chlorure de vinyle, un motif monomère pouvant former un acétate de vinyle, un motif monomère pouvant former du (méth)acrylonitrile, un motif monomère pouvant former du N-vinylimidazole et un motif monomère pouvant former du N-vinylcarbazole.
(JA)上記温度応答性ポリマーを細胞培養基材に用いる場合、臨海溶解以下に細胞培養 基材の温度を下げる必要があるが、同時に細胞を低温化してしまう。また、剥離してくる細胞はシート状であり、その後、細胞を加工するためには、低温を維持したまま、ピペッティング等で細胞を分散させる必要があり、さらに冷却時間が長くなってしまう。細胞の低温化は細胞の活性低下を及ぼすため、冷却時間の短縮が必要である。 解決手段:下記(A)および(B) (A)水に対する下限臨界溶解温度(LCST)が0℃~50℃の範囲にある温度応答性重合体のブロック。 (B)0℃~50℃の範囲にLCSTを持たない、HLB値(グリフィン法)が9~20の範囲にある親水性重合体のブロック。 のブロックを含むブロック共重合体で表面を被覆した細胞培養基材、ならびに下記(A)および(B) (A)水に対する下限臨界溶解温度(LCST)が0℃~50℃の範囲にある温度応答性重合体のブロック。 (B)下記(i)~(iii)の要件を満たすブロック。 (i)0℃~50℃の範囲にLCSTを持たない。 (ii)カルボン酸基、カルボン酸エステル基、カルボン酸金属塩、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルホン酸金属塩、ヒドロキシ基、アルコキシ基、フェノキシ基、アミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、カルバメート基、リン酸基、リン酸基の金属塩、オキシリン酸基、オキシリン酸基の金属塩、ホスホベタイン基、スルホベタイン基、カルボベタイン基、ポリエチレングリコール基、ピロリドン基から選ばれる少なくとも1種の親水性基を有するモノマーの親水性重合体である。 (iii)(ii)の重合体中に、芳香族ビニル化合物が生成するモノマー単位、(メタ)アクリルアミド化合物が生成するモノマー単位、フマル酸ジエステル化合物が生成するモノマー単位、塩化ビニルが生成するモノマー単位、酢酸ビニルが生成するモノマー単位、(メタ)アクリロニトリルが生成するモノマー単位、N-ビニルイミダゾールが生成するモノマー単位、N-ビニルカルバゾールが生成するモノマー単位から選ばれる少なくとも1種のモノマー単位を含有する。 のブロックを含むブロック共重合体で表面を被覆した細胞培養基材を提供することにより前記課題を解決する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)