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1. (WO2016158881) 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/158881    国際出願番号:    PCT/JP2016/059980
国際公開日: 06.10.2016 国際出願日: 28.03.2016
IPC:
G03F 7/022 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324 (JP)
発明者: ECHIGO, Masatoshi; (JP).
TOIDA, Takumi; (JP).
SATO, Takashi; (JP)
代理人: INABA, Yoshiyuki; (JP)
優先権情報:
2015-070125 30.03.2015 JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS SUR PHOTORÉSINE
(JA) 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)A radiation-sensitive composition containing a resist base material (A), a diazonaphthoquinone optically-active compound (B), and a solvent (C). The solid component content in the radiation-sensitive composition is 1%-80% by mass, the solvent content is 20%-99% by mass, and the resist base material (A) is a compound indicated by formula (1).
(FR)Composition photosensible qui contient un matériau de base photorésine (A), un composé optiquement actif de diazonaphtoquinone (B) et un solvant (C). La teneur en composant solide dans la composition photosensible est de 1 % à 80 % en masse, la teneur en solvant est de 20 % à 99 % en masse, et le matériau de base photorésine (A) est un composé répondant à la formule (1).
(JA) (A)レジスト基材と、(B)ジアゾナフトキノン光活性化合物と、(C)溶媒と、を含有する感放射線性組成物であって、前記感放射線性組成物中における固形成分の含有量が1~80質量%であり、溶媒の含有量が20~99質量%であり、前記(A)レジスト基材が式(1)で表される化合物である、感放射線性組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)