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1. (WO2016158785) 積層基板の測定方法、積層基板および測定装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/158785    国際出願番号:    PCT/JP2016/059699
国際公開日: 06.10.2016 国際出願日: 25.03.2016
IPC:
G01N 21/21 (2006.01), G01B 11/06 (2006.01), G01N 21/27 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
出願人: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP)
発明者: YAMAMOTO Taiki; (JP).
YAMAMOTO Taketsugu; (JP).
KASAHARA Kenji; (JP)
代理人: RYUKA IP LAW FIRM; 22F, Shinjuku L Tower, 1-6-1, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1631522 (JP)
優先権情報:
2015-067788 29.03.2015 JP
2015-067789 29.03.2015 JP
発明の名称: (EN) MULTI-LAYER SUBSTRATE MEASUREMENT METHOD, MULTI-LAYER SUBSTRATE, AND MEASUREMENT DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE DE SUBSTRAT MULTI-COUCHE, SUBSTRAT MULTICOUCHE, ET DISPOSITIF DE MESURE
(JA) 積層基板の測定方法、積層基板および測定装置
要約: front page image
(EN)Provided is a measurement method, wherein a multi-layer substrate has a base substrate, an absorption layer, and a layer to be measured in this order, and the layer to be measured has one or a plurality of single layers to be measured, said method comprising: a step for applying incident light, including light with a wavelength shorter than a threshold wavelength, from the side on which the layer to be measured is located, measuring reflected light, and thereby acquiring 2n (where, n is the number of single layers to be measured included in the layer to be measured, and is an integer of 1 or more) or more reflected light-related values independent of each other at wavelengths equal to or shorter than the threshold wavelength; and a step for using the 2n or more reflected-light related values to calculate, with regard to the respective single layers to be measured included in the layer to be measured, values relating to the single layers to be measured. Used as the threshold wavelength is the maximum wavelength in a wavelength range in which the absolute value of a first order differential dk(λ)/dλ when an extinction coefficient k of the absorption layer is represented as a function k(λ) of a wavelength λ (in units of nm) becomes an extinction differential threshold value or less.
(FR)L'invention concerne un procédé de mesure, dans lequel un substrat multicouche possède un substrat de base, une couche d'absorption, et une couche à mesurer dans cet ordre, et la couche à mesurer a une ou une pluralité de couches uniques à mesurer, ledit procédé comprenant : une étape consistant à appliquer une lumière incidente, comprenant une lumière ayant une longueur d'onde inférieure à une longueur d'onde seuil, à partir du côté sur lequel la couche à mesurer est située, mesurer la lumière réfléchie et, par conséquent, acquérir 2n (n étant le nombre de couches uniques à mesurer comprises dans la couche à mesurer, et étant un entier égal à 1 ou plus) valeurs ou plus liées à la lumière réfléchie indépendamment l'une de l'autre à des longueurs d'onde égales ou inférieures à la longueur d'onde seuil ; et une étape consistant à utiliser les 2n valeurs ou plus liées à la lumière réfléchie pour calculer, par rapport aux couches uniques respectives à mesurer comprises dans la couche à mesurer, des valeurs liées aux couches uniques à mesurer. On utilise, comme longueur d'onde seuil, la longueur d'onde maximale dans une plage de longueurs d'onde dans laquelle la valeur absolue d'un différentiel de premier ordre dk(λ)/dλ, lorsqu'un coefficient d'extinction k de la couche d'absorption est représenté sous la forme d'une fonction k(λ) d'une longueur d'onde λ (en unités de nm), devient une valeur de seuil de différentiel d'extinction ou moins.
(JA)ベース基板、吸収層および被測定層をこの順に有し、被測定層が単一または複数の被測定単層を有し、被測定層が位置する側からしきい波長より短波長の光を含む入射光を照射し、反射光を測定することにより、しきい波長以下の波長における互いに独立な2n(nは被測定層に含まれる被測定単層の層数であり1以上の整数)以上の反射光関連値を取得するステップと、2n以上の反射光関連値を用いて、被測定層に含まれる各被測定単層について、被測定単層に関する値を計算するステップとを有し、しきい波長として吸収層の消衰係数kを波長λ(単位はnm)の関数k(λ)として表した場合の一回微分dk(λ)/dλの絶対値が消衰微分しきい値以下となる波長範囲の最大波長を用いる測定方法を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)