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1. (WO2016158345) 円筒型スパッタリングターゲットの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/158345    国際出願番号:    PCT/JP2016/057974
国際公開日: 06.10.2016 国際出願日: 14.03.2016
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117 (JP)
発明者: YOSHIDA Yuki; (JP).
UEDA Toshiaki; (JP).
MORI Satoru; (JP)
代理人: SHIGA Masatake; (JP)
優先権情報:
2015-070227 30.03.2015 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING CYLINDRICAL SPUTTERING TARGETS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CIBLES DE PULVÉRISATION CATHODIQUE CYLINDRIQUES
(JA) 円筒型スパッタリングターゲットの製造方法
要約: front page image
(EN)The method for manufacturing cylindrical sputtering targets according to the present invention has a step of selecting, with respect to the linear thermal expansion coefficient αM of a sintered body, the materials for a molding die and a core so that the linear thermal expansion coefficient αD of the molding die and the linear thermal expansion coefficient αC of the core satisfy the following relationship: αD ≤ αM ≤ αC. This method for manufacturing cylindrical sputtering targets comprises: a sintering step of sintering a base material powder by heating to a sintering temperature TS (ºC); and a core withdrawal step of withdrawing the core from the molding die after the sintering step. With respect to the sintering temperature TS (ºC), the core withdrawal temperature TR (ºC) in the core withdrawal step is within the range: 0.5 × TS ≤ TR ≤ 0.1 × TS.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de cibles de pulvérisation cathodique cylindriques qui comprend une étape consistant à sélectionner, en fonction du coefficient de dilatation thermique linéaire αM d'un corps fritté, les matériaux pour une matrice de moulage et une partie centrale de sorte que le coefficient de dilatation thermique linéaire αD de la matrice de moulage et le coefficient de dilatation thermique linéaire αC de la partie centrale satisfont la relation suivante : αD ≤ αM ≤ αC. Ce procédé de fabrication de cibles de pulvérisation cathodique cylindriques comprend : une étape de frittage consistant à fritter une poudre de matériau de base par chauffage à une température de frittage TS en °C ; et une étape de retrait de partie centrale consistant à retirer la partie centrale de la matrice de moulage après l'étape de frittage. Par rapport à la température de frittage TS en ºC, la température de retrait de la partie centrale TR (ºC) de l'étape de retrait de la partie centrale est dans la plage : 0,5 × TS ≤ TR ≤ 0,1 × TS.
(JA) 本発明の円筒型スパッタリングターゲットの製造方法は、焼結体の線熱膨張係数αMに対して、成形型の線熱膨張係数αD、及び、中子の線熱膨張係数αCが、αD≦αM≦αCの関係となるように、前記成形型及び前記中子の材質を設定し、焼結温度TS(℃)に原料粉末を加熱して焼結を行う焼結工程と、この焼結工程の後に、前記成形型から前記中子を抜き取る中子抜取工程と、を有し、中子抜取工程における中子抜取温度TR(℃)が、焼結温度TS(℃)に対して、0.5×TS≦TR≦1.0×TSの範囲内である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)