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1. WO2016158169 - レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及びそれに用いるポリフェノール化合物

公開番号 WO/2016/158169
公開日 06.10.2016
国際出願番号 PCT/JP2016/056333
国際出願日 02.03.2016
IPC
C07D 311/92 2006.01
C化学;冶金
07有機化学
D複素環式化合物(高分子化合物C08)
311異項原子として1個の酸素原子のみをもつ6員環を含有し,他の環と縮合した複素環式化合物
02炭素環または炭素環系とオルト―またはペリ―縮合したもの
783個またはそれ以上の関連する環をもつ環系
92ナフトピラン;水素添加したナフトピラン
C07B 61/00 2006.01
C化学;冶金
07有機化学
B有機化学の一般的方法あるいはそのための装置
61他の一般的方法
C08G 61/12 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
61高分子の主鎖に炭素―炭素連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
12高分子の主鎖に炭素以外の原子を含む高分子化合物
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
G03F 7/038 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
038不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
CPC
C07B 61/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
BGENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
61Other general methods
C07C 37/20
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
37Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
11by reactions increasing the number of carbon atoms
20using aldehydes or ketones
C07C 39/14
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
39Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
12polycyclic with no unsaturation outside the aromatic rings
14with at least one hydroxy group on a condensed ring system containing two rings
C07C 39/17
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
39Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
12polycyclic with no unsaturation outside the aromatic rings
17containing other rings in addition to the six-membered aromatic rings ; , e.g. cyclohexylphenol
C07C 39/225
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
39Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
205polycyclic, containing only six-membered aromatic rings as cyclic parts with unsaturation outside the rings
225with at least one hydroxy group on a condensed ring system
C07C 39/42
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
39Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
24Halogenated derivatives
42containing six-membered aromatic rings and other rings
出願人
  • 三菱瓦斯化学株式会社 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 樋田 匠 TOIDA, Takumi
  • 越後 雅敏 ECHIGO, Masatoshi
  • 佐藤 隆 SATO, Takashi
  • 清水 洋子 SHIMIZU, Youko
代理人
  • 稲葉 良幸 INABA, Yoshiyuki
優先権情報
2015-07326531.03.2015JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYPHENOL COMPOUND USED THEREIN
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSINE, ET COMPOSÉ DE POLYPHÉNOL UTILISÉ DANS CETTE COMPOSITION
(JA) レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及びそれに用いるポリフェノール化合物
要約
(EN)
The present invention is a compound represented by general formula (1).
(FR)
La présente invention porte sur un composé représenté par la formule générale (1).
(JA)
 本発明は、下記一般式(1)で表される化合物である。
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