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1. WO2016157422 - 基板吸着装置及び基板吸着方法

公開番号 WO/2016/157422
公開日 06.10.2016
国際出願番号 PCT/JP2015/060170
国際出願日 31.03.2015
IPC
H01L 21/677 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
677移送のためのもの,例.異なるワ―クステーション間での移送
B25J 15/06 2006.01
B処理操作;運輸
25手工具;可搬型動力工具;手工具用の柄;作業場設備;マニプレータ
Jマニプレータ;マニプレータ装置を持つ小室
15把持部
06真空または磁力把持装置をもつもの
CPC
B25J 15/06
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
JMANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
15Gripping heads ; and other end effectors
06with vacuum or magnetic holding means
H01L 21/677
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
677for conveying, e.g. between different workstations
出願人
  • 株式会社メイコー MEIKO ELECTRONICS CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 新開 昇 SHINGAI, Noboru
  • 河田 茂 KAWADA, Shigeru
  • 高橋 伸幸 TAKAHASHI, Nobuyuki
代理人
  • 長門 侃二 NAGATO, Kanji
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SUBSTRATE SUCTIONING DEVICE AND SUBSTRATE SUCTIONING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'ASPIRATION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ D'ASPIRATION DE SUBSTRAT
(JA) 基板吸着装置及び基板吸着方法
要約
(EN)
This substrate suction device (1), for sucking an internal gas to suction a substrate (31) in contact therewith, is provided with: a suctioning unit (2) which contacts the substrate and is provided with multiple suction holes; a suction hole connecting unit (3) which, in conjunction with the suctioning unit, forms a shared internal space connected to the suction holes and which is provided with a suction port (15b) for sucking the internal gas from the shared internal space; and a plate-shape suction hole opening and closing unit (4) which is provided inside of the suctioning unit and which comprises multiple valve bodies (21) for opening and closing the suction holes. The valve bodies are provided with a closing plate (22) which closes the suction holes by contacting the inner surface (8a) of the suctioning unit exposed by the suction holes, and with an elastic support plate (23) which supports the closing plate so as to enable displacement in the extension direction of the suction hole.
(FR)
L'invention concerne un dispositif (1) d'aspiration de substrat, destiné à aspirer un gaz interne afin d'aspirer un substrat (31) en contact avec lui. Le dispositif comprend : une unité d'aspiration (2) qui est en contact avec le substrat et contient de multiples trous d'aspiration ; une unité de connexion (3) de trou d'aspiration qui, en conjonction avec l'unité d'aspiration, forme un espace interne partagé connecté aux trous d'aspiration et contenant un orifice d'aspiration (15b) pour aspirer le gaz interne de l'espace interne partagé ; et une unité (4) d'ouverture et de fermeture de trou d'aspiration en forme de plaque, qui est prévue à l'intérieur de l'unité d'aspiration et contient de multiples corps de soupape (21) pour ouvrir et fermer les trous d'aspiration. Les corps de soupape sont dotés d'une plaque de fermeture (22) qui ferme les trous d'aspiration en étant en contact avec la surface interne (8a) de l'unité d'aspiration exposée par les trous d'aspiration et d'une plaque de support élastique (23) qui supporte la plaque de fermeture de manière à permettre le déplacement dans la direction d'extension du trou d'aspiration.
(JA)
 内部ガスを吸引して当接した基板(31)を吸着する基板吸着装置(1)であって、前記基板に当接し、複数の吸引孔を備える吸着部(2)と、前記複数の吸引孔のそれぞれと連結する内部共有空間を前記吸着部と協働して形成し、前記内部共有空間から前記内部ガスを吸引するための吸引口(15b)を備える吸引孔連結部(3)と、前記吸着部に内設され、前記吸引孔の開閉を行う複数の弁体(21)を備える板状の吸引孔開閉部(4)と、前記弁体は、前記吸引孔によって露出した前記吸着部の内側表面(8a)に当接して前記吸引孔を閉塞する閉塞板(22)、前記閉塞板を前記吸引孔の延在方向に変位可能に支持する弾性支持板(23)を備えること。
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