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1. (WO2016047657) 硬化性組成物、パターン形成方法、パターンおよびデバイスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/047657    国際出願番号:    PCT/JP2015/076855
国際公開日: 31.03.2016 国際出願日: 24.09.2015
IPC:
C08F 20/20 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: KITAGAWA Hirotaka; (JP).
GOTO Yuichiro; (JP)
代理人: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
優先権情報:
2014-196187 26.09.2014 JP
発明の名称: (EN) CURING COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) COMPOSITION DURCISSABLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
(JA) 硬化性組成物、パターン形成方法、パターンおよびデバイスの製造方法
要約: front page image
(EN)Provided are the following: a curing composition that excels in release properties and inkjet discharge accuracy; a pattern forming method; a pattern; and a device manufacturing method. The curing composition contains a polymerizable compound and a photopolymerization initiator. At least 10 mass% of the polymerizable compound is neopentyl glycol diacrylate, and the total content of a compound represented by formula (I) and a compound represented by formula (II) is no more than 5 mass% with respect to the content of the neopentyl glycol diacrylate.
(FR)L'invention concerne : une composition durcissable qui possède d'excellentes propriétés de libération et une excellente précision de la décharge du jet d'encre ; un procédé de formation d'un motif ; un motif ; et un procédé de fabrication d'un dispositif. La composition durcissable contient un composé polymérisable et un initiateur de photopolymérisation. Au moins 10 % en masse du composé polymérisable est le diacrylate de néopentyl glycol, et la teneur totale d'un composé représenté par la formule (I) et d'un composé représenté par la formule (II) n'est pas supérieure à 5 % en masse par rapport à la teneur du diacrylate de néopentyl glycol.
(JA) 離型性およびインクジェット吐出精度に優れた硬化性組成物、パターン形成方法、パターン、デバイスの製造方法を提供する。 重合性化合物と光重合開始剤とを含有し、重合性化合物の10質量%以上がネオペンチルグリコールジアクリレートであり、下式(I)で表される化合物と、下式(II)で表される化合物との合計の含有量が、ネオペンチルグリコールジアクリレートの含有量に対して5質量%以下である、硬化性組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)