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1. (WO2016047650) パターン形成体の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/047650    国際出願番号:    PCT/JP2015/076843
国際公開日: 31.03.2016 国際出願日: 24.09.2015
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), C08F 2/48 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: GOTO Yuichiro; (JP)
代理人: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
優先権情報:
2014-195479 25.09.2014 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING PATTERN FORMED BODY
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CORPS DE FORMATION DE MOTIF
(JA) パターン形成体の製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a method for producing a pattern formed body which is suppressed in pattern defects. A method for producing a pattern formed body according to the present invention comprises: a step wherein a pattern formation layer is formed by applying a photocurable composition onto a substrate or onto a mold having a pattern, the pattern formation layer is cured by irradiating the pattern formation layer with light after sandwiching the pattern formation layer by the substrate and the mold, and a pattern is formed by removing the mold from the surface of the cured pattern formation layer; and a step wherein a heating treatment is carried out after removing or thinning a film in a recessed portion of the thus-obtained pattern, said film being derived from the photocurable composition.
(FR)L'invention fournit un procédé de fabrication de corps de formation de motif dans lequel les défauts de motif sont supprimés. Le procédé de fabrication de corps de formation de motif de l'invention inclut : une étape au cours de laquelle une composition photodurcissable est appliquée sur un matériau de base ou sur un moule possédant un motif, formant ainsi une couche de formation de motif, puis, après enserrement entre le matériau de base et le moule, la couche de formation de motif est irradiée par une lumière et durcie, enfin, le moule est décollé de la surface de la couche de formation de motif ainsi durcie, et le motif est formé ; et une étape au cours de laquelle un traitement de chauffage est effectué après retrait ou amincissement d'une pellicule dérivée de la composition photodurcissable dans une partie en creux du motif obtenu.
(JA) パターン欠陥の抑制されたパターン形成体の製造方法を提供する。 本発明のパターン形成体の製造方法は、光硬化性組成物を、基材上またはパターンを有するモールド上に適用してパターン形成層を形成し、基材とモールドとでパターン形成層を挟んだ後、パターン形成層に光を照射してパターン形成層を硬化し、硬化したパターン形成層の表面からモールドを離型してパターンを形成する工程と、得られたパターンの凹部における光硬化性組成物由来の膜を除去または薄膜化した後、加熱処理を行う工程とを含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)