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1. (WO2016047392) 感光性樹脂組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、高分子化合物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/047392    国際出願番号:    PCT/JP2015/074803
国際公開日: 31.03.2016 国際出願日: 31.08.2015
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/095 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: NOZAKI Atsuyasu; (JP).
SATO Takashi; (JP).
MUKAIYAMA Rena; (JP)
代理人: NOGUCHI Yasuhiro; (JP)
優先権情報:
2014-196598 26.09.2014 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LITHOGRAPHIC PRINTING ORIGINAL PLATE, METHOD FOR PRODUCING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND POLYMER COMPOUND
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PLAQUE D'ORIGINE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE ET COMPOSÉ POLYMÈRE
(JA) 感光性樹脂組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、高分子化合物
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide: a photosensitive resin composition which enables the achievement of a lithographic printing original plate that exhibits good solubility in an aqueous alkaline solution in a non-image part, and which enables the achievement of a lithographic printing plate that has excellent chemical resistance and excellent printing durability; a lithographic printing original plate which uses this photosensitive resin composition; a method for producing a lithographic printing plate; and a novel polymer compound. A photosensitive resin composition according to the present invention is characterized by containing: a polymer compound which has an amine bond or a quaternary ammonium salt bond as well as at least one bond selected from the group consisting of a urea bond, a urethane bond and a carbonate bond in the main chain, while having a sulfone amide group or a phenolic hydroxyl group in the main chain and/or in a side chain; and an infrared absorbing material.
(FR)La présente invention a pour but de proposer : une composition de résine photosensible qui permet l'obtention d'une plaque d'origine d'impression lithographique qui présente une bonne solubilité dans une solution alcaline aqueuse dans une partie non-image, et qui permet l'obtention d'une plaque d'impression lithographique qui a une excellente résistance chimique et une excellente durabilité d'impression ; une plaque d'origine d'impression lithographique qui utilise cette composition de résine photosensible ; un procédé pour produire une plaque d'impression lithographique ; et un nouveau composé polymère. Une composition de résine photosensible selon la présente invention est caractérisée en ce qu'elle contient : un composé polymère qui a une liaison amine ou une liaison sel d'ammonium quaternaire ainsi qu'au moins une liaison choisie dans le groupe consistant en une liaison urée, une liaison uréthane et une liaison carbonate dans la chaîne principale, tout en ayant un groupe sulfonamide ou un groupe hydroxyle phénolique dans la chaîne principale et/ou dans une chaîne latérale ; et un matériau absorbant le rayonnement infrarouge.
(JA) 得られる平版印刷版原版の非画像部におけるアルカリ水溶液への溶解性が良好であり、更に、得られる平版印刷版の耐薬品性及び耐刷性に優れた感光性樹脂組成物、上記感光性樹脂組成物を用いた平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、並びに、新規な高分子化合物を提供することを目的とする。本発明の感光性樹脂組成物は、アミン結合又は4級アンモニウム塩結合、並びに、ウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を主鎖に有し、かつ、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を主鎖及び/又は側鎖に有する高分子化合物と赤外線吸収材料とを含有することを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)