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1. (WO2016047306) 金属酸化物粒子膜の製造方法、金属膜の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/047306    国際出願番号:    PCT/JP2015/072915
国際公開日: 31.03.2016 国際出願日: 13.08.2015
IPC:
B05D 7/24 (2006.01), B05D 1/36 (2006.01), B05D 5/12 (2006.01), H05K 3/10 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: OHTA Hiroshi; (JP)
代理人: WATANABE Mochitoshi; (JP)
優先権情報:
2014-196924 26.09.2014 JP
発明の名称: (EN) PROCESS FOR PRODUCING FILM OF METAL OXIDE PARTICLES AND PROCESS FOR PRODUCING METAL FILM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM DE PARTICULES D'OXYDE MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM MÉTALLIQUE
(JA) 金属酸化物粒子膜の製造方法、金属膜の製造方法
要約: front page image
(EN)The present invention provides: a production process whereby a film of metal oxide particles that has high evenness in film thickness can be produced; and a process for producing a metal film. This process for producing a film of metal oxide particles is a process for producing a metal oxide particle film including metal oxide particles, and comprises: a step in which a first liquid film constituted of a first liquid that comprises a first solvent and shows a pH which differs from the isoelectric point of the metal oxide particles by up to 0.5 in terms of absolute value is formed in lyophilic areas of a substrate having the lyophilic areas and lyophobic areas in the surface; and a step in which a second liquid which comprises the metal oxide particles and a second solvent, has a surface tension smaller by at least 5 mN/m than the surface tension of the first liquid, and shows a pH which differs from the isoelectric point of the metal oxide particles by at least 3.0 in terms of absolute value is disposed on the first liquid film to form a second liquid film, and thereafter the first solvent and the second solvent are removed to form a film of the metal oxide particles.
(FR)La présente invention concerne : un procédé de production permettant de produire un film de particules d'oxyde métallique ayant une grande régularité d'épaisseur ; et un procédé de production d'un film métallique. Ce procédé de production d'un film de particules d'oxyde métallique est un procédé de production d'un film de particules d'oxyde métallique comprenant des particules d'oxyde métallique, et comprend : une étape dans laquelle un premier film liquide constitué d'un premier liquide qui comprend un premier solvant et présente un pH qui est différent du point isoélectrique des particules d'oxyde métallique de 0,5 maximum en termes de valeur absolue est formé dans des zones lyophiles d'un substrat ayant les zones lyophiles et les zones lyophobes dans la surface ; et une étape dans laquelle un second liquide qui comprend les particules d'oxyde métallique et un second solvant, a une tension superficielle inférieure d'au moins 5 mN/m à la tension superficielle du premier liquide, et présente un pH qui est différent du point isoélectrique des particules d'oxyde métallique d'au moins 3,0 en termes de valeur absolue est disposé sur le premier film liquide pour former un second film liquide, et ensuite le premier solvant et le second solvant sont éliminés pour former un film de particules d'oxyde métallique.
(JA) 本発明は、膜厚の均一性が高い金属酸化物粒子膜を製造することができる、金属酸化物粒子膜の製造方法、および、金属膜の製造方法を提供する。本発明の金属酸化物粒子膜の製造方法は、金属酸化物粒子を含む金属酸化物粒子膜の製造方法であって、表面に親液領域と撥液領域とを有する基板の親液領域に、第1溶媒を含み、金属酸化物粒子の等電点との差の絶対値が0.5以内のpHを示す第1液からなる第1液膜を形成する工程と、金属酸化物粒子および第2溶媒を含み、表面張力が第1液の表面張力よりも5mN/m以上小さく、金属酸化物粒子の等電点との差の絶対値が3.0以上であるpHを示す第2液を第1液膜上に付与して第2液膜を形成し、その後、第1溶媒および第2溶媒を除去し、金属酸化物粒子膜を形成する工程とを有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)