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1. (WO2016043318) EUV光源装置およびEUV光発生方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/043318    国際出願番号:    PCT/JP2015/076716
国際公開日: 24.03.2016 国際出願日: 18.09.2015
IPC:
H05G 2/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: A SCHOOL CORPORATION KANSAI UNIVERSITY [JP/JP]; 3-35, Yamate-cho 3-chome, Suita-shi, Osaka 5648680 (JP)
発明者: ONISHI, Masami; (JP).
Waheed, Hugrass,; (AU).
TASHIMA, Saya; (JP)
代理人: SATO & ASSOCIATES; (JP)
優先権情報:
2014-191974 19.09.2014 JP
発明の名称: (EN) EUV LIGHT SOURCE DEVICE AND METHOD FOR GENERATING EUV LIGHT
(FR) DISPOSITIF DE SOURCE DE LUMIÈRE UVE ET PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE UVE
(JA) EUV光源装置およびEUV光発生方法
要約: front page image
(EN) Provided is a light source device and a method with which the efficiency of generating EUV light can be further improved. [Solution] According to this EUV light source device, a noble gas is supplied into a space inside a hollow body 2 comprising a non-magnetic insulator that extends so as to penetrate a cavity resonator 1 through a space inside the cavity resonator 1. The space inside a first chamber C1, interposed between the lower end part of the hollow body 2 and the space inside a second chamber C2, is vacuum-suctioned. At least a part of a partition wall C20 between the first chamber C1 and the second chamber C2 is configured from a transmissive window M comprising an EUV-light-transmissive material. Electromagnetic waves are supplied into the space inside the cavity resonator 1 and a standing wave is formed, the energy of the standing wave being absorbed by the noble gas present in the space inside the hollow body 2. A plasma is thereby generated, and the EUV light emitted from the plasma is radiated through the lower end part of the hollow body 2 and the transmissive window M into the space inside the second chamber C2.
(FR) L’invention concerne un dispositif de source de lumière et un procédé grâce auquel l’efficacité de génération de lumière UVE peut être encore améliorée. La solution selon l’invention consiste en ce que, dans ce dispositif de source de lumière UVE, un gaz noble est introduit dans un espace à l’intérieur d’un corps creux (2) comprenant un isolant non magnétique qui s’étend de manière à pénétrer dans un résonateur à cavité (1) à travers un espace à l’intérieur du résonateur à cavité (1). L’espace à l’intérieur d’une première chambre (C1), intercalé entre la partie d’extrémité inférieure du corps creux (2) et l’espace à l’intérieur d’une seconde chambre (C2), est dépressurisé. Au moins une partie d’une paroi de séparation (C20) entre la première chambre (C1) et la seconde chambre (C2) est constituée d’une fenêtre transparente (M) comprenant un matériau transparent à la lumière UVE. Des ondes électromagnétiques sont introduites dans l’espace à l’intérieur du résonateur à cavité (1) et une onde stationnaire est formée, l’énergie de l’onde stationnaire étant absorbée par le gaz noble présent dans l’espace à l’intérieur du corps creux (2). Un plasma est ainsi généré, et la lumière UVE émise par le plasma est rayonnée à travers la partie d’extrémité inférieure du corps creux (2) et la fenêtre transparente (M) dans l’espace à l’intérieur de la seconde chambre (C2).
(JA) EUV光の発生効率のさらなる向上を図りうる光源装置および方法を提供する。 【解決手段】本発明のEUV光源装置によれば、空洞共振器1をその内部空間を経て貫通するように延在している非磁性絶縁体からなる中空体2の内部空間に希ガスが供給される。中空体2の下端部と第2チャンバC2の内部空間との間に介在する第1チャンバC1の内部空間が真空吸引される。第1チャンバC1および第2チャンバC2の間の隔壁C20の少なくとも一部がEUV光透過材料からなる透過窓Mにより構成されている。空洞共振器1の内部空間に電磁波が供給されて定在波が形成され、中空体2の内部空間に存在する希ガスに当該定在波のエネルギーが吸収される。これによりプラズマが発生し、当該プラズマから発せられるEUV光が中空体2の下端部および透過窓Mを通じて第2チャンバC2の内部空間に放射される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)